Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise

UNIVERSIDADE FEDERAL DE SANTA CATARINA UFSC DEPARTAMENTO DE ENGENHARIA MECÂNICA EMC LABORATORIO DE MATERIAIS LABMAT LABORATÓRIO DE CARACTERIZAÇÃO MICROESTRUTURAL E ANÁLISE DE IMAGENS LCMAI MICROSCOPIA ELETRÔNICA DE VARREDURA Profa Ana Maria Maliska Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise MICROSCOPIA ELETRÔNICA DE VARREDURA E MICROANÁLISE 1 Introdução 11 Preliminares 03 12 Introdução 03 13 Escopo do Trabalho 05 2 Princípios Básicos de Funcionamento do Microscópio Eletrônico de Varredura 06 21 Introdução 06 22 Breve Histórico 07 23 Componentes do MEV 08 24 Coluna Ópticoeletrônica 09 241 Canhão de Elétrons 09 242 Características da Fonte 12 25 Sistema de Lentes 16 26 Demagnificação do Feixe Eletrônico 19 27 Aberrações das Lentes 21 28 Varredura do Feixe de Elétrons 24 3 Formação Processamento e Interpretação da Imagem 27 31 Introdução 27 32 Interações Elétronsamostra 27 33 Origem dos Sinais 31 34 Imagem por Elétrons Secundários 36 341 Distribuição de energia 36 342 Dependência dos Elétrons Secundários com a composição da amostra e a energia dos ep 37 343 Profundidade de escape dos elétrons secundários 37 344 Resolução espacial 40 345 Detecção dos elétrons secundários 41 346 Mecanismos de contraste 43 35 Imagem por Elétrons Retroespalhados 47 351 Distribuição de energia 48 352 Profundidade de Escape 48 353 Resolução Espacial 48 354 Detecção dos Elétrons Retroespalhados 48 355 Mecanismos de Contraste 49 4 Microanálise por Energia Dispersiva 51 41 Introdução 51 42 Breve Histórico 51 Profª Ana Maria Maliska 1 Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise 43 Origem dos Sinais 53 431 Radiação Contínua 53 432 Radiação Característica 54 433 Energia Crítica de Ionização 57 434 Energia dos RaiosX Característicos 57 435 Elétrons Auger 59 44 Características da Radiação de RaiosX 60 441 Resolução Espacial 61 442 Direcionalidade do Sinal 62 443 Profundidade de Excitação 63 444 Absorção do RaioX 63 445 Fluorescência do RaioX 64 45 Espectrômetro de Energia Dispersiva 65 451 Processamento do Sinal 66 452 Eficiência do Detector 67 453 Eficiência da Geometria do Detector 69 454 Ângulo de Saída takeoff angle 69 455 Resolução do Detector 70 456 Relação entre Altura do Pico e Background 71 46 Artefatos no Processo de Detecção do Espectro 71 461 Picos de Escape 71 462 Absorções Laterais 72 463 Pico de fluorecência interna do Silício 73 464 Picos Somados Sum Peaks 73 465 Radiações Perdidas Stray Radition 73 466 Aquecimento do Detector 74 47 Análise Qualitativa 74 471 Guia para Análise Qualitativa por Energia Dispersiva 80 48 Análise Quantitativa 82 481 Procedimento para Análise Quantitativa 83 482 Fatores de Correção na Quantificação dos Elementos 84 483 Origem dos Efeitos na Matriz 85 484 Efeito do Número Atômico 86 485 Profundidade de formação dos RaiosX 88 486 Fatores ZAF na microanálise 89 487 Efeito da absorção dos RaiosX 90 488 Fluorescência dos RaiosX 95 489 Tipos de Correção de matriz 96 4810 Requisitos para a Análise Química 97 Profª Ana Maria Maliska 2 Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise CAPÍTULO UM INTRODUÇÃO 11 PRELIMINARES Durante a fase de produção ou análise de materiais quase sempre se torna necessário analisar a sua microestrutura Esta análise microestrutural é muito importante pois permite entender as correlações microestrutura defeitos propriedades predizer as propriedades do material quando estas correlações são estabelecidas As técnicas mais utilizadas para este tipo de análise são a Microscopia Ótica e Eletrônica No caso da microscopia ótica o contraste da imagem é resultado da diferença de reflectividade da luz nas diversas regiões da microestrutura uma vez que o sistema é constituído basicamente pela fonte de iluminação e do sistema de lentes Para materiais que são opacos a luz visível como é o caso dos metais da maioria dos cerâmicos e polímeros somente a superfície pode ser observada e a mesma precisa ser cuidadosamente preparada de maneira a revelar os detalhes da microestrutura Uma das limitações da microscopia ótica é o aumento máximo conseguido que fica em torno de 2 000 vezes Como conseqüência pequenos detalhes estruturais não são possíveis de serem detectados através desta técnica Nesta era de intenso avanço tecnológico cada vez mais os cientistas têm a necessidade de observar analisar e explicar corretamente os fenômenos que ocorrem na escala micrométrica ou submicrométrica A microscopia eletrônica de varredura se apresenta como a técnica mais adequada pois permite alcançar aumentos muito superior ao da microscopia ótica Dependendo do material pode atingir até 900 000 vezes mas para a análise de materiais normalmente o aumento é da ordem de 10 000 vezes No caso da microscopia eletrônica a área ou o microvolume a ser analisado é irradiado por um fino feixe de elétrons ao invés da radiação da luz Como resultado da interação do feixe de elétrons com a superfície da amostra uma Profª Ana Maria Maliska 3 iexe Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise série de radiações são emitidas tais como elétrons secundários elétrons retroespalhados raiosX característicos elétrons Auger fótons etc Estas radiações quando captadas corretamente irão fornecer informações características sobre a amostra topografia da superfície composição cristalografia etc Na microscopia eletrônica de varredura os sinais de maior interesse para a formação da imagem são os elétrons secundários e os retroespalhados A medida que o feixe de elétrons primários vai varrendo a amostra estes sinais vão sofrendo modificações de acordo com as variações da superfície Os elétrons secundários fornecem imagem de topografia da superfície da amostra e são os responsáveis pela obtenção das imagens de alta resolução já os retroespalhados fornecem imagem característica de variação de composição O Microscópio Eletrônico de Varredura MEV se tornou um instrumento imprescindível nas mais diversas áreas eletrônica geologia ciência e engenharia dos materiais ciências da vida etc Em particular o desenvolvimento de novos materiais têm exigido um número de informações bastante detalhado das características microestruturais só possível de ser observado no MEV Podemos afirmar que onde haja um grupo de desenvolvimento de materiais há a necessidade de um MEV para as observações microestruturais O MEV tem seu potencial ainda mais desenvolvido com a adaptação na câmara da amostra de detectores de raiosX permitindo a realização de análise química na amostra em observação Através da captação pelos detectores e da análise dos raiosX característicos emitidos pela amostra resultado da interação dos elétrons primários com a superfície é possível obter informações qualitativas e quantitativas da composição da amostra na região submicrometrica de incidência do feixe de elétrons Este procedimento facilita a identificação a de precipitados e mesmo de variações de composição química dentro de um grão Atualmente quase todos os MEV são equipados com detectores de raiosX sendo que devido a confiabilidade e principalmente devido a facilidade de operação a grande maioria faz uso do detector de energia dispersiva EDX Profª Ana Maria Maliska 4 Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise 12 ESCOPO DO TRABALHO Este trabalho foi desenvolvido com o objetivo de transmitir aos usuários da microscopia eletrônica de varredura os princípios básicos de funcionamento desta técnica e sua aplicação para a caracterização de materiais É muito importante que as pessoas que usam esta técnica na análise de seus trabalhos não a utilizem como uma caixa preta mas conheçam seus recursos e também de suas limitações Com este objetivo no capítulo dois será apresentado a fundamentação teórica e os princípios básicos de funcionamento do microscópio eletrônico de varredura MEV Apesar da imagem gerada no microscópio ser bastante clara de ser entendida é preciso que se tenha noção que existem muitos parâmetros que podem ser variados para melhorar a qualidade desta imagem No capítulo três deste trabalho são apresentados os processos básicos de formação e obtenção das imagens com enfoque nas imagens geradas pelos elétrons secundários e elétrons retroespalhados Neste trabalho será dado ênfase também à microanálise química por energia dispersiva EDX já que esta técnica se encontra extremamente correlacionada com a microscopia eletrônica de varredura sendo muito usada para a determinação dos elementos presentes em volumes micrométricos Devido a sua potencialidade e versatilidade de uso atualmente a maioria dos microscópios eletrônicos de varredura possuem acoplado um espectrometro por energia dispersiva Os principais fenômenos que regem esta técnica e os princípios básicos da análise qualitativa e quantitativa dos elementos químicos são obtidos no capítulo 3 Profª Ana Maria Maliska 5 Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise CAPÍTULO DOIS PRINCÍPIOS BÁSICOS DE FUNCIONAMENTO DO MICROSCÓPIO ELETRÔNICO DE VARREDURA 21 INTRODUÇÃO Microscópio Eletrônico de Varredura MEV é um instrumento muito versátil e usado rotineiramente para a análise microestrutural de materiais sólidos Apesar da complexidade dos mecanismos para a obtenção da imagem o resultado é uma imagem de muito fácil interpretação O aumento máximo conseguido pelo MEV fica entre o microscópio ótico MO e o Microscópio Eletrônico de Transmissão MET A grande vantagem do MEV em relação ao microscópio ótico é sua alta resolução na ordem de 2 a 5 nm 20 50 Ao atualmente existem instrumentos com até 1 nm 10 Ao enquanto que no ótico é de 05 µm Comparado com o MET a grande vantagem do MEV está na facilidade de preparação das amostras Entretanto não são apenas estas características que fazem do MEV uma ferramenta tão importante e tão usada na análise dos materiais A elevada profundidade de foco imagem com aparência tridimensional e a possibilidade de combinar a análise microestrutural com a microanálise química são fatores que em muito contribuem para o amplo uso desta técnica A observação e análise de fratura teve um grande avanço com o uso do microscópio eletrônico de varredura Neste capítulo serão apresentados os diversos componentes do MEV e os seus princípios básicos de funcionamento É muito importante que se entenda as funções desses componentes para que se possa ajustar adequadamente os diversos parâmetros Profª Ana Maria Maliska 6 iexe Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise voltagem diâmetro do feixe e obter um bom sinal de elétrons secundários elétrons retroespalhados ou raiosX 22 BREVE HISTÓRICO Historicamente a microscopia eletrônica de varredura teve seu início com o trabalho de M Knoll 1935 descrevendo a concepção do MEV 1 Em 1938 von Ardenne construiu o primeiro microscópio eletrônico de transmissão de varredura adaptando bobinas de varredura ao microscópio eletrônico de transmissão Neste caso as amostras não podiam ser amostras espessas pois se tratava de um microscópio de transmissão e o tempo para obter uma foto era de cerca de 20 min O aumento máximo conseguido foi de 8 000x com resolução aproximada de 50 nm O primeiro microscópio eletrônico de varredura para observação de amostras espessas foi construído em 1942 nos laboratórios da RCA usando o detector de elétrons secundários para obter a imagem 2 No entanto a resolução conseguida neste caso foi de apenas 1 µm o que era muito ruim já que com o microscópio ótico era possível obter resolução de 05 µm Melhoramentos foram feitos para reduzir o diâmetro do feixe de elétrons e melhorar a parte eletrônica principalmente a relação sinalruído através do uso de elétronmultiplicadora Com estas modificações se conseguiu obter imagem com resolução de 50 nm 500 Ao A substituição das lentes eletrostáticas por lentes eletromagnéticas permitiu melhorar ainda mais a resolução passando para 25 nm Modificações foram sendo introduzidas através de melhoras nos detectores como por exemplo a introdução do cintilador que converte os elétrons em sinal de luz e a sua captação por uma fotomultiplicadora Em 1965 foi então construído o primeiro MEV comercial pela Cambridge Scientific Instrument Desde então muitos avanços têm sido feito principalmente em relação as fontes de elétrons a parte eletrônica e computacional A substituição do sistema analógico pelo digital permite que as imagens sejam armazenadas e processadas facilmente O advento dos microcomputadores e o desenvolvimento de programas específicos para operação e análise dos resultados facilitou ainda mais a utilização do MEV Profª Ana Maria Maliska 7 Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise 23 COMPONENTES DO MEV O MEV conforme pode ser visto na Fig 21 consiste basicamente da coluna oticoeletrônica canhão de elétrons e sistema de demagnificação1 da unidade de varredura da câmara de amostra do sistema de detectores e do sistema de visualização da imagem Figura 21 Representação esquemática dos componentes do Microscópio Eletrônico de Varredura 3 O canhão de elétrons é usado para a produção do feixe de elétrons com energia e quantidade suficiente para ser captado pelos detectores Esse feixe eletrônico é então demagnificado por várias lentes eletromagnéticas cuja finalidade é produzir um feixe de elétrons focado com um pequeno diâmetro numa determinada região da amostra 1 A palavra demagnificação está sendo usada neste texto como sinônimo de redução do diâmetro do feixe eletrônico Profª Ana Maria Maliska 8 Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise 24 COLUNA OPTICOELETRÔNICA Na coluna óticoeletrônica ficam localizados o canhão de elétrons que gera os elétrons primários as lentes condensadoras que colimam o feixe de elétrons primários as bobinas que promovem a deflexão do feixe de elétrons primários no sentido horizontal e vertical sobre uma dada região da amostra e ainda as bobinas que fazem as correções de astigmatismo Toda a coluna deve estar sob vácuo durante a emissão do feixe de elétrons primários 241 Canhão de Elétrons O canhão de elétrons é o conjunto de componentes cuja finalidade é a produção dos elétrons e a sua aceleração para o interior da coluna Este feixe de elétrons deve ser estável e com intensidade suficiente para que ao atingir a amostra possa produzir um bom sinal O diâmetro do feixe produzido diretamente pelo canhão de elétrons é muito grosseiro para produzir uma boa imagem em grandes aumentos e por isso precisa ser reduzido pelas condensadoras lentes eletromagnéticas A maioria dos MEV é capaz de produzir um feixe de elétrons que ao atingir a amostra tenha um diâmetro da ordem de 10 nm 100 Ao e que ainda possua corrente suficiente para formar uma imagem com boa resolução Vários tipos de canhão de elétrons são usados nos microscópios variando assim a quantidade de corrente que as mesmas podem produzir o tamanho da fonte a estabilidade do feixe produzido e o tempo de vida da fonte O modelo mais usado é formado por três componentes tipo triodo um filamento de tungstênio que serve como cátodo o cilindro de Wehnelt e o ânodo conforme pode ser visto na Fig 22 O microscópio eletrônico PhilipsXL30 instalado no LabmatEMC possui este é tipo de canhão O filamento de tungstênio tem seu funcionamento baseado no efeito termoiônico de emissão dos elétrons A emissão termoiônica dos elétrons pelo filamento ocorre quando é fornecido calor suficiente ao mesmo e os elétrons podem ultrapassar a barreira de energia para escapar do material Para reduzir o efeito de evaporação do filamento que é comum a elevadas temperaturas procurase usar como filamento um material que precise de baixa energia para emitir elétrons No caso do tungstênio é possível obter Profª Ana Maria Maliska 9 Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise uma boa emissão de elétrons ou seja produzir um feixe eletrônico com alta densidade de corrente em temperatura bem abaixo da temperatura de fusão do tungstênio A temperatura de emissão do tungstênio é de 2427 oC e a de fusão é de 3410 oC ocasionando uma baixa evaporação deste filamento e consequentemente um maior tempo de vida A duração de um filamento de tungstênio é da ordem de 60 h podendo variar dependo da saturação Figura 22 Diagrama esquemático do canhão de elétrons tipo triodo 2 O filamento de tungstênio é aquecido resistivamente pela fonte cuja voltagem na maioria dos casos varia entre 200 V e 30 KV Durante a operação o filamento é mantido num potencial altamente negativo pela fonte de alta voltagem e os elétrons são emitidos pelo filamento aquecido em todas as direções Envolvendo o filamento há o cilindro de Wehnelt ou grade catódica Essa grade catódica funciona como um eletrodo adicional de controle e é polarizada negativamente por cerca de 500 V através de uma resistência variável em relação ao filamento O cilindro de Wehnelt atua no sentido de focar os elétrons emitidos pelo filamento para dentro do canhão e controlar a Profª Ana Maria Maliska 10 Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise quantidade de elétrons emitidos pelo filamento Fig 22 Abaixo do conjunto filamentocilindro de Wehnelt se encontra um outro componente polar o ânodo O filamento ao ser aquecido pela passagem da corrente elétrica corrente de saturação a uma temperatura de 2700 K 2427 oC começa a emitir elétrons Esses elétrons são repelidos pela polarização negativa da grade catódica passando pelo orifício central existente na grade catódica e são então acelerados para dentro da coluna do MEV devido a diferença de potencial ddp entre a voltagem aplicada no filamento e o ânodo terra Para entender isso é bom lembrar que entre o filamento e o ânodo há uma superfície equipotencial que atua no sentido de acelerar o feixe de elétrons primários do cátodo maior potencial para o ânodo menor potencial O furo no ânodo permite que somente uma fração dos elétrons emitidos continuem em direção ao interior da coluna Em cada lente eletromagnética e abertura existente ao longo da coluna o diâmetro do feixe de elétrons se torna menor e consequentemente a corrente do feixe fica algumas ordens de grandeza menor quando atinge a amostra No caso do filamento de tungstênio a corrente de emissão que dentro do canhão no crossover é de 100 µA ao atingir a amostra é da ordem de 1 pA 1 µA De fato a corrente do feixe que atinge a amostra seria a mesma corrente do crossover se a maioria dos elétrons não fosse interceptada pelas aberturas na coluna especialmente pelo ânodo Efetivamente o cilindro de Wehnelt e o ânodo funcionam como um sistema de lentes eletrostáticas O resultado é a produção de um feixe de elétrons com um pequeno diâmetro focalizado num ponto chamado de entrecruzamento crossover próximo ao orifício do ânodo O ponto de entrecruzamento é o primeiro foco e é uma imagem da área de emissão do filamento cujo tamanho depende do valor da tensão aplicada na grade Aumentando a tensão as linhas equipotenciais se afastam do filamento até um momento em que cessa a emissão Portanto para se obter uma corrente de feixe satisfatória a área da emissão deve ser grande Dependendo das distâncias filamento grade catódica e grade catódicaânodo a imagem do primeiro foco pode ser feita menor que a área de emissão permitindo assim a produção de um fino feixe de elétrons primários Na realidade é o ponto de entrecruzamento e não o filamento que é usado como a fonte de elétrons para as lentes eletromagnéticas Profª Ana Maria Maliska 11 Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise É importante que a imagem do primeiro foco seja menor possível porque a função das lentes condensadoras é a de tornar o feixe eletrônico divergente quando se afasta do canhão em um feixe o mais fino possível monocromático e focado na superfície da amostra O diâmetro do crossover é o ponto de partida para a colimação e focagem do feixe eletrônico sobre a amostra Se o diâmetro do crossover for grande pode haver perda de resolução ou as lentes magnéticas serão muito solicitadas para colimarem e assim não haver perda de desempenho da coluna Observase do exposto acima que a resolução de um MEV não depende apenas da tensão de aceleração utilizada mas também do desempenho das lentes condensadoras e do número de elétrons que se consegue tirar do filamento mantendo a área de emissão a menor possível 242 Características das Fontes Para que uma fonte de elétrons seja considerada uma boa fonte alguns parâmetros de desempenho devem ser considerados densidade de corrente brilho tempo de vida tamanho e estabilidade da fonte O feixe eletrônico é frequentemente caracterizado pela densidade de corrente expressa como Jb correnteárea ib π d22 21 e que pode ser medida em qualquer ponto da coluna O valor de Jb varia ao passar por cada lente eletromagnética e pelas aberturas devido ao espalhamento angular divergência e interceptação do feixe A medida da densidade de corrente não leva em conta a divergência do feixe eletrônico Portanto esta grandeza não caracteriza de forma adequada o desempenho da fonte Não adianta uma fonte produzir uma quantidade muito grande de elétrons se os mesmos são perdidos ao serem colimados pelas lentes eletromagnéticas devido a grande divergência do feixe de elétrons A divergência do feixe está diretamente relacionada com a área de emissão do filamento e com o tamanho do crossover Quanto menor estas áreas menos divergente será o feixe O brilho β é o parâmetro mais adequado para caracterizar o desempenho de uma fonte O brilho leva em conta tanto a densidade de corrente como a divergência do feixe de elétrons e é expresso pela equação β corrente área angulo sólido 4 ib π2 d2 α2 22 Profª Ana Maria Maliska 12 Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise medida em Acm2 sr e onde ib é a corrente do feixe em qualquer ponto da coluna fora do canhão d é o diâmetro do feixe neste ponto e α é o angulo de divergência ou convergência do feixe Estes parâmetros estão representados na Fig 22 O brilho do feixe eletrônico é uma grandeza muito importante para avaliar o desempenho de uma fonte de tal maneira que mesmo valores aproximados são validos Um importante resultado é que o brilho do feixe de elétrons aumenta com a voltagem e diminui com o aumento da temperatura do filamento O filamento de tungstênio vem sendo a fonte mais utilizada nos últimos 50 anos pela maioria dos microscópios eletrônicos apesar da existência de outras fontes emissoras como o Hexaboreto de Lantâneo LaB6 o Field Emission Gun FEG Fig 23 e que apresentam brilho mais intenso Isto é conseqüência do seu baixo custo aliado ao seu bom desempenho Em aplicações onde o alto brilho da fonte não é muito necessário como para médios aumentos na faixa de 10 000x e que são os aumentos normalmente usados para a análise de materiais e onde se deseja um feixe bastante estável caso da microanálise o filamento de tungstênio pode ser considerado como a melhor opção de fonte Uma fonte típica de tungstênio é um filamento com cerca de 100 µm de diâmetro dobrado na forma de V conforme pode ser visto na Fig 23a Sob condições normais de operação a área de emissão de elétrons pelo filamento é de cerca de 100 µm x 150 µm e o tamanho da fonte no crossover fica entre 30 a 100 µm Devido a este grande tamanho do crossover é necessário que o mesmo sofra uma grande redução no seu diâmetro pelas lentes eletromagnéticas para que o MEV tenha uma boa resolução O brilho de uma fonte de tungstênio com o diâmetro do feixe no entrecruzamento do de 30 a 100 µm e αo de 3 x 10 3 a 8 x 10 3 é em torno de 92 x 104 Acm2sr a 20 KV Aumentando a voltagem do filamento para 30 KV o brilho aumenta para cerca de 15 x 105 Acm2sr Profª Ana Maria Maliska 13 Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise a b c Figura 23 Micrografia eletrônica de um filamento de W a LaB6 b e FEG c 1 A boa estabilidade na ordem de 1 das fontes termoiônicas W e LaB6 é outro parâmetro muito importante a ser considerado principalmente no caso do uso de microanálise A durabilidade de um filamento de tungstênio quando sob razoável vácuo da ordem de 103 Pa 105 Torr é de 30 a 100 h Os parâmetros discutidos acima são apresentados na Tab 21 onde são comparados com outras fontes Uma maneira de melhorar o brilho da fonte é mudar o material da fonte LaB6 ou mudar o mecanismo de emissão FEG aumentando em uma ou mais ordens de grandeza Das fontes de alto brilho a fonte termoiônica de LaB6 é a mais comum Esta fonte oferece cerca de 5 a 10 vezes mais brilho que a fonte de tungstênio e um tempo de vida muito maior conforme pode ser visto na tabela 21 No caso da fonte de LaB6 a energia necessária para que ocorra emissão termoiônica dos elétrons é aproximadamente metade da energia necessária para o caso do filamento de tungstênio O valor típico da densidade de corrente de operação do LaB6 é de 40 Acm2 a 1800 K 1527 oC No caso do filamento de tungstênio é de 34 Acm2 quando aquecido a uma temperatura de 2700 K 2427 oC Uma fonte de LaB6 é geralmente de maior custo operacional do que uma fonte de tungstênio O vácuo necessário para sua operação é bem mais elevado menor do que 105 Pa 107 Torr necessitando do uso de bombas turbomoleculares O custo de uma fonte de LaB6 é cerca de 10 vezes maior que uma fonte de tungstênio Entretanto o aumento significado da corrente do filamento e o grande tempo de vida destas fontes 1000 h justificam o seu emprego Profª Ana Maria Maliska 14 Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise Tabela 21 Comparação de várias fontes a 20 kV 1 Fonte Brilho Acm2sr Tempo de vida h Tamanho da Fonte no crossover Estabilidade da corrente do feixe Tungstênio 103 40 100 30 100 mm 1 LaB6 106 200 1 000 5 50 mm 1 FEG 108 10 000 5 nm 5 As fontes de elétrons descritas anteriormente são fontes termoiônicas cuja desvantagem é o menor brilho e a evaporação da fonte A fonte de emissão eletrostática Field Emission Electron Guns é normalmente um monocristal de tungstênio na forma de um fio com uma ponta extremamente fina Fig 23c Como a ponta do filamento é muito fina cerca de 100 nm ou menos o campo elétrico fica extremamente alto Como resultado temse uma grande emissão de elétrons e consequente uma elevada densidade de corrente cerca de 105 Acm2 quando comparada com a do filamento de tungstênio que é de 3 Acm2 Como a área do primeiro foco fonte virtual é de aproximadamente 10 nm a demagnificação redução do feixe de elétrons não precisa ser tão intensa podendo se obter uma resolução de 1 a 2 nm As fontes de emissão eletrostáticas podem ser aquecidas ou não sendo que as fontes frias necessitam de vácuo mais elevado 1010 Torr do que as aquecidas 109 Torr As fontes de emissão eletrostáticas produzem excelentes imagens como resultado da maior corrente e do menor tamanho do feixe eletrônico Entretanto devido a menor estabilidade do feixe eletrônico quando comparado as fontes termoiônicas Tabela 21 torna essas fontes não adequada para o uso em micronálise Aliada ainda a necessidade de elevado vácuo fazem com que essas fontes sejam pouco empregadas Profª Ana Maria Maliska 15 Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise 25 SISTEMA DE LENTES O objetivo do sistema de lentes do MEV situado logo abaixo do canhão de elétrons é o de demagnificar a imagem do crossover do1050 µm no caso das fontes termoiônicas para um tamanho final de 1 nm 1 µm ao atingir a amostra Isto representa uma demagnificação da ordem de 10 000 vezes No caso do sistema de emissão eletrostáticas como o tamanho da fonte já é pequeno essa redução é da ordem de 10100 vezes Os elétrons podem ser focados pela ação de um campo eletrostático ou de um campo magnético A primeira focagem dos elétrons dentro do canhão e que resultou no crossover é realizada pela ação de um campo eletrostático As demais lentes dentro da coluna na grande maioria dos microscópios são lentes eletromagnéticas Nos trabalhos iniciais de construção do MEV foram utilizadas lentes condensadoras eletrostáticas e que mais tarde foram substituídas pelas lentes eletromagnéticas Essas lentes são as mais usadas pois apresentam menor coeficiente de aberração Mesmo com a focagem magnética as lentes eletrônicas são bem menos eficiente do que as lentes de vidro para focar a luz Algumas aberrações que podem ser corrigidas com as lentes de vidro não é possível com as lentes eletrônicas Fazem parte do sistema de lentes três condensadoras sendo a última chamada de objetiva As duas primeiras condensadoras atuam no sentido de colimar o feixe de elétrons primários o máximo possível demagnificando a imagem do crossover enquanto que a objetiva atua no sentido de reduzir aberrações esféricas Normalmente as lentes condensadoras e a objetiva são controladas automática e simultaneamente A lente eletromagnética consiste num cilindro de ferro com um furo central através do qual passa o eixo ótico eletrônico do microscópio No interior do cilindro e envolvendo o eixo ótico existem muitas bobinas de cobre Fig 24 através da qual circula uma corrente quando a lente está em operação Esta configuração cria um campo magnético homogêneo no centro do cilindro com o campo magnético na direção norte sul Profª Ana Maria Maliska 16 Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise Figura 24 Diagrama esquemático de uma lente eletromagnética 3 Na parte central da lente existe uma fenda no cilindro de Fe Fig 24 de tal modo a modificar o campo magnético e desviar os elétrons do feixe que se encontram fora do eixo ótico O grau de deflexão dos elétrons com mesma energia será maior para aqueles que se encontram mais distante do eixo ótico A deflexão do feixe de elétrons irá depender também da energia dos elétrons do feixe e da intensidade do campo magnético Quanto menor a energia dos elétrons maior será a deflexão do feixe e quanto maior a intensidade da corrente nas bobinas de cobre mais intenso será o campo magnético e maior será a deflexão do feixe de elétrons O campo magnético dentro da fenda tem duas componentes uma ao longo da direção do eixo ótico e outra perpendicular ao mesmo Esta ultima é que causa o movimento em espiral dos elétrons a medida que os mesmos atravessam a coluna Quanto mais intenso for o campo magnético mais intenso será este movimento É este efeito em espiral do movimento dos elétrons que causa a rotação da imagem quando a corrente na Profª Ana Maria Maliska 17 Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise lente final é alterada por exemplo quando se refoca a amostra que tenha sido mudada para uma diferente altura Quando se altera a altura da amostra em análise ou seja quando se desloca o eixo Z a superfície da amostra perde foco Esse movimento altera a distância de trabalho working distance WD que é a distância entre a superfície da amostra e a parte inferior da lente objetiva Neste caso a focagem é feita ajustando a corrente na lente objetiva para obter a distância focal correta para a mostra em análise A distância focal f diminui com o aumento da corrente nas bobinas tornando a lente mais intensa A distância focal também é dependente da voltagem de aceleração do feixe eletrônico pois a velocidade dos elétrons aumenta com o aumento da voltagem do feixe alto KV Todos os microscópios modernos automaticamente variam a corrente das lentes em função do aumento da voltagem do feixe compensando assim a mudança na distância focal Lentes Condensadoras A maioria dos microscópios é equipado com duas lentes condensadoras cuja função é demagnificar o feixe eletrônico Conforme descrito anteriormente quanto maior a corrente que flui pelas condensadoras menor o tamanho final do feixe eletrônico e consequentemente menor a corrente do feixe que atinge a amostra As condensadoras são normalmente refrigeradas ao ar pois são lentes mais fracas e o calor por elas gerado devido a passagem de corrente é facilmente dissipado Lente Objetiva A última lente da coluna é a objetiva cujo principal papel é focar a imagem variando a distância focal do feixe eletrônico ao longo do eixo ótico eixo Z da coluna Como a lente objetiva é a lente mais potente do MEV com uma intensa corrente fluindo através de suas bobinas ela normalmente precisa ser refrigerada Esta lente normalmente contém as bobinas defletoras as bobinas de correção do astigmatismo e a abertura final Profª Ana Maria Maliska 18 Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise 26 DEMAGNIFICAÇÃO DO FEIXE ELETRÔNICO A demagnificação de um feixe eletrônico é similar a demagnificação de um feixe de luz A equação que descreve a distância focal é a mesma que a usada na ótica 1f 1p 1q 23 onde p é a distância do objeto ao centro da lente e q é a distância do centro da lente a imagem conforme mostrado na Fig 25 Observe que a distância focal é a distância do centro da lente até um ponto onde um raio paralelo ao eixo cruza o eixo pela ação da lente Figura 25 Esquema da trajetória do raio para determinação de f A Fig 26 mostra o esquema de controle dos parâmetros do microscópio para o caso de um MEV com duas lentes É claro que os desvios do feixe causado pelas lentes estão mostrados de maneira exagerada o ângulo α típico é da ordem de 0001 a 002 radianos 005 1o O crossover do canhão eletrônico de diâmetro do e ângulo de divergência αo ao atravessar a primeira condensadora é reduzido para um diâmetro d1 com um aumento do ângulo de divergência para α1 Nos microscópios de varredura antes da primeira condensadora existe uma abertura cujo papel é bloquear os elétrons que saem do crossover muito espalhados com grande αo Profª Ana Maria Maliska 19 Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise a b Figura 26 Ótica geométrica da demagnificação do feixe eletrônico para uma coluna com duas lentes uma condensadora e uma objetiva Em a com pequena distância de trabalho e em b com grande distância de trabalho 1 Observase na Fig 26 que a distância p1 do crossover até a depressão central da lente é constante enquanto que a distância q1 entre a lente condensadora e o próximo ponto de entrecruzamento do feixe é variável variando a corrente na lente condensadora A medida que a corrente nas bobinas da lente aumenta a distância focal f1 diminui Como visto anteriormente também a medida que a corrente nas bobinas da lente aumenta a demagnificação do feixe será maior reduzindo o tamanho do diâmetro do feixe d1 e aumentando o ângulo de divergência α1 dos elétrons no ponto de entrecruzamento abaixo da lente condensadora Profª Ana Maria Maliska 20 Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise Efeito do tamanho da abertura final A abertura final com diâmetro de 50 a 300 µm é colocada na última lente objetiva conforme pode ser visto na Fig 26a Esta abertura diminui o ângulo de divergência α1 dos elétrons da condensadora para um ângulo αo dos elétrons que entram na objetiva O ângulo final de divergência α2 do feixe eletrônico é que irá determinar a profundidade de foco e que está relacionado com o tamanho da abertura final Pequenos ângulos α2 causam maior profundidade de foco Efeito da distância de trabalho A lente objetiva pode focar o feixe final em diferentes alturas conforme pode ser visto na Fig 26 Em ambos os esquemas da Fig 26 a intensidade das lentes condensadoras é igual causando uma mesma redução do feixe O tamanho das aberturas também é igual de tal maneira que αa é o mesmo em ambos os casos Para que o feixe final possa ser focado a uma distância maior da objetiva aumentando a distância de trabalho a corrente na lente objetiva deve ser diminuída aumentando a distância focal f2 da lente O ângulo de convergência α2 neste caso diminui e como conseqüência temse um aumento na profundidade de foco Observando a Fig 26 fica fácil de entender o que ocorre quando uma distância de trabalho é selecionada fixando a corrente na objetiva e se move a amostra verticalmente ao longo do eixo z até que a amostra alcance o foco 27 ABERRAÇÕES DAS LENTES Como resultado da deflexão não ideal da lente magnética erros óticos na formação do feixe são introduzidos Esses erros são conhecidos como aberrações e causam uma defasagem dos raios eletrônicos no foco Como resultado a imagem fica desfocada As três principais aberrações das lente eletromagnéticas são astigmatismo aberração esférica e aberração cromática Astigmatismo Profª Ana Maria Maliska 21 Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise Resultado do campo magnético não simétrico de maneira que a lente atua de maneira diferente nas diferentes direções do feixe eletrônico Esta não simetria do campo é resultado da não homogeneidade do material usado na lente assimetria das bobinas mínima sujeira na abertura carregamento das regiões vizinhas ao eixo ótico ou mesmo do próprio carregamento da amostra Por exemplo se devido a esta não simetria a lente apresentar uma forma elíptica ao invés de circular dois elétrons que divergem de um mesmo ponto serão focados em pontos diferentes como duas linhas separadas ao invés de um ponto Fig 27 O astigmatismo causa um alargamento final do feixe para um tamanho da mesmo que a lente esteja livre de todas as outras aberrações Figura 27 Diagrama esquemático mostrando a origem do astigmatismo 3 O astigmatismo fica evidenciado para aumentos relativamente grandes da ordem de 10000 x ou maior O efeito do astigmatismo é detectado quando ao se focar a imagem e a mesma for levemente desfocada acima ou abaixo da distância focal correta a imagem fica esticada em direções perpendiculares Esse estiramento da imagem desaparece no ponto correto do foco mas a imagem fica nublada como se continuasse desfocada A correção do astigmatismo é feita pelo uso de oito bobinas divididas em dois grupos de quatro A aplicação de um leve campo magnético suplementar na direção correta fazem a lente aparecer simétrica em relação ao feixe eletrônico Na Fig 27 observase que um ponto ao ser focado aparece como duas linhas na imagem e que ao se corrigir o astigmatismo com o uso das bobinas as duas linhas são forçadas para um mesmo foco de tamanho do Se os parâmetros do MEV estirem corretos e não for possível corrigir o astigmatismo da imagem é necessário então limpar as aberturas eou o tubo da coluna e alinhar a coluna Aberração Esférica Profª Ana Maria Maliska 22 Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise A aberração esférica ocorre quando a trajetória dos elétrons que estão mais distantes do centro do eixo ótico é muito mais defletida pelo campo magnético do que a trajetória dos elétrons próximos ao centro Fig 28a Neste caso a deflexão do feixe eletrônico irá originar vários focos cuja posição depende da distância do centro do eixo ótico A menor imagem do ponto P ocorre I e I e é conhecida como disco esférico de mínima distorção a b Figura 28 Diagrama esquemático mostrando aberração esférica a e cromática b 2 A aberração esférica do feixe eletrônico não pode ser removida como no caso da ótica pela combinação de uma lente positiva e uma negativa No caso do feixe de elétrons a única maneira é diminuir a divergência do feixe pelo uso de uma abertura menor na objetiva Infelizmente isto irá causar uma diminuição na corrente do feixe Aberração Cromática A aberração esférica ocorre como resultado da variação de energia dos elétrons do feixe primário A deflexão da trajetória dos elétrons depende não somente da sua posição mas também da sua energia Desta maneira elétrons que estejam posicionados a uma mesma distância do centro do eixo eletrônico serão focados em pontos diferentes dependendo dos valores de suas energias A Fig 28 mostra que para dois elétrons de mesma trajetória PB mas com diferentes energias por exemplo Eo e Eo E os mesmos serão focados em diferentes pontos no Profª Ana Maria Maliska 23 Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise plano da imagem respectivamente Q e Q Esta aberração faz com que a imagem do ponto P seja aumentada para 2QQ A menor imagem do ponto P é o disco esférico dC 28 VARREDURA DO FEIXE DE ELÉTRONS Nas seções anteriores foi visto a formação do crossover pelo canhão eletrônico e a demagnificação e focagem do feixe de elétrons na superfície da amostra O resultado é a incidência sobre a amostra de um feixe estacionário Este feixe é então defletido sobre a amostra por um par de bobinas eletromagnéticas situadas numa depressão dentro da objetiva acima da abertura final O feixe é defletido sobre a amostra na direção x e y conforme pode ser visto na Fig 29 A varredura do feixe de elétrons pelas bobinas defletoras é também acompanhado pela deflexão de sua imagem no video O aumento da varredura da imagem é simplesmente a relação entre o tamanho da imagem no video pelo tamanho da área varrida na amostra Como o tamanho da imagem do video não varia as bobinas de deflexão é que serão as responsáveis pelo aumento da amostra Quanto maior o aumento menor a região varrida e menor a deflexão do feixe É muito importante do fato de se poder variar o aumento da imagem somente variando a área varrida sem ter que modificar outros parâmetros do MEV Uma consequencia é a possibilidade do operador selecionar um aumento maior do que o desejado para a imagem podendo então focar adequadamente o feixe na amostra e com isso obter uma correta focagem Profª Ana Maria Maliska 24 Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise Figura 29 Esquema da varredura do feixe de elétrons 3 Conforme pode ser observado na Fig 29 o tamanho do feixe considerado ideal para um determinado aumento é aquele cujas bordas do feixe tocam levemente a linha anteriormente varrida Se o diâmetro do feixe é muito grande ocorre uma sobreposição das linhas varridas e o resultado é uma imagem fora de foco A outra situação é quando o diâmetro do feixe é muito pequeno Neste caso ao reduzir o diâmetro do feixe pelo ajuste da corrente nas lentes condensadoras conforme visto anteriormente o número de elétrons no feixe e consequentemente o número de elétrons que irão interagir com a amostra é também reduzido Isto significa que para obter o mesmo brilho na imagem como seria com o feixe ideal o sinal reduzido precisa ser amplificado resultando em aumento de ruído eletrônico Outra conseqüência do tamanho do feixe muito pequeno é que algumas áreas da amostra onde as bordas do feixe não se encontram não serão varridas pelo feixe de elétrons Quando a voltagem de aceleração do feixe primário é diminuída o circuito eletrônico automaticamene compensa a corrente das lentes de tal maneira a acomodar esses elétrons Profª Ana Maria Maliska 25 Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise menos energéticos e manter as mesmas condições de demagnificação do feixe e de foco como as que se tinha para elevada voltagem Entretanto esse elétrons menos energéticos são mais sujeitos a aberrações óticas aberrações cromáticas e mais sensíveis a pequenas variações do campo magnético Resumindo as correntes nas lentes condensadoras o material da amostra e a voltagem aplicada influenciam efetivamente no tamanho do diâmetro do feixe selecionado De tal maneira que o procedimento mais correto para selecionar o diâmetro ideal do feixe para uma determinada condição é através da experiência Isto normalmente é feito selecionando o aumento que se deseja da imagem e gradualmente ir reduzindo o diâmetro do feixe até que depois de ajustado a correção do astigmatismo e refocada novamente é obtida uma imagem bem nítida Como visto anteriormente a quantidade de ruído eletrônico irá aumentar a medida que se reduz o tamanho do feixe Este ruído pode ser eletronicamente retirado da imagem ao selecionar uma varredura mais lenta Geralmente quanto menor a velocidade de varredura maior será a redução do ruído eletrônico Profª Ana Maria Maliska 26 Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise CAPÍTULO TRÊS FORMAÇÃO PROCESSAMENTO E INTERPRETAÇÃO DA IMAGEM 31 INTRODUÇÃO A versatilidade da microscopia eletrônica de varredura e da microanálise se encontra na possibilidade de se poder captar e medir as diversas radiações provenientes das interações elétronamostra Estas interações podem revelar informações da natureza da amostra incluindo composição topografia potencial eletrostático campo magnético local e outras propriedades da amostra Para que o analista possa entender e fazer uso das ricas informações provenientes destas radiações na forma de imagem ou da microanálise é necessário que o mesmo entenda os fenômenos fisícos que ocorrem nestas interações Neste capítulo serão apresentadas as noções básicas das complexas interações elétronamostra com a finalidade de fornecer as informações necessárias para a interpretação das imagens fornecidas pelo MEV É muito importante observar que apesar do grande controle dos parâmetros do feixe eletrônico antes de atingir a amostra assim que os elétrons penetram na mesma o processo de espalhamento é que irá controlar as informações obtidas Por isso é muito importante saber qual o volume da amostra em que ocorrem estas interações 32 INTERAÇÕES ELÉTRONSAMOSTRA O elétron do feixe eletrônico ao atingir a superfície da amostra irá interagir com os átomos da amostra Como conseqüência da presença do potencial atômico e nuclear da amostra este elétron sofrerá modificação na sua velocidade inicial Esta variação da velocidade pode ser somente na direção ou pode ocorrer tanto na direção quanto no módulo magnitude As interações nas quais ocorre a mudança na trajetória do elétron sem que Profª Ana Maria Maliska 27 iexe Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise ocorra variação na sua energia cinética são ditas interações elásticas Aquelas em que há transferência de energia do elétron primário ep para os átomos da amostra são chamadas de interações inelásticas Se o elétron penetra no átomo de maneira a alcançar o núcleo o potencial columbiano do núcleo carregado positivamente irá influenciar na velocidade do eletron Classicamente este mecanismo de interação é conhecido como espalhamento Rutheford e o desvio do elétron da sua trajetória inicial pode ser calculado com boa precisão A força que atua sobre o elétron ao se aproximar do núcleo é a força de Coulomb portanto diretamente proporcional a carga do núcleo ou seja ao numero atômico Z É importante observar que o movimento do núcleo é muito pouco afetado pelo movimento do elétron devido a sua grande massa cerca de 1830 vezes a massa do elétron Na interação entre o elétron e o núcleo existe conservação do momento e energia sendo portanto uma interação do tipo elástica Entretanto para uma correta interpretação e necessário também levar em conta a presença dos elétrons do próprio átomo O elétron do feixe ao penetrar no átomo irá interagir também com os elétrons ao redor do átomo resultando principalmente em espalhamento inelástico do elétron e transferência de energia para o átomo Como resultado destas interações elétrons das várias camadas do átomo poderão ser liberados eou excitados A maioria dos elétrons das camadas externas do átomo sofrem este tipo de interações inelásticas pois estes elétrons requerem pouca energia para serem removidos Estes elétrons irão se mover pelo material e também poderão sofrer interações inelásticas Alem disso o átomo excitado aquele do qual foi retirado um elétron poderá captar um elétron que esteja se movendo na amostra resultante de outras excitações ou elétrons provenientes do aterramento da amostra Estes elétrons são elétrons pouco energéticos e somente aqueles que se encontram muito próximos da superfície e que possuem energia suficiente para ultrapassar a barreira superficial é que conseguem escapar do material A profundidade de penetração dos elétrons depende da composição do material a qual influencia tanto o espalhamento elástico quanto o inelástico Em particular o espalhamento inelástico que causa a redução da velocidade é mais intenso para materiais com elevado Z do que para materiais com baixo Z Isso significa que apesar do espalhamento elástico aumentar para materiais com elevado Z a profundidade de Profª Ana Maria Maliska 28 Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise penetração é menor do que para baixo número atômico Com base em modelos de probabilidade de ocorrência de espalhamentos elásticos e inelásticos foi criada a simulação de MonteCarlo onde são definidos os ângulos de espalhamento e transferência de energia 14 Através desta simulação as direções aleatórias dos elétrons no interior da amostra são calculadas e estatisticamente os caminhos mais prováveis obtidos resultando numa boa aproximação do volume de interações Alguns desses tipos de simulação são mostrados na Fig 31 para o C Fe Ag e Au a b c d Figura 31 Simulação de MonteCarlo para o volume de interação de amostra de Carbono a Ferro b Prata c e Ouro d com o feixe de elétrons primários de 20 KeV 3 Analisando os aumentos destas figuras observase que existe uma grande influência no valor de Z do material com o volume de interação Neste caso onde a energia do feixe Profª Ana Maria Maliska 29 Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise de elétrons primários é de 20 KeV a profundidade de penetração para o caso do carbono é de 3 µm e para a prata é de 07 µm Figura 32 Simulação de Monte Carlo do espalhamento dos elétrons no ferro usando diferentes energias no feixe de elétron primário 3 Profª Ana Maria Maliska 30 Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise A influência da energia inicial do feixe de elétrons primários pode ser observada na Fig32 para o caso do ferro Como pode ser visto nestas figuras a profundidade de penetração aumenta com o aumento da energia do feixe primário Um bom conhecimento acerca da região de interação é muito importante quando se trabalha com materiais não homogêneos como é o caso de camadas filmes finos inclusões em metais A forma do volume de interação também é influenciada pela estrutura interna do material Por exemplo num material com estrutura cristalina os elétrons penetram por determinados canais preferenciais sem muita perda de sua energia interna Se a direção destes canais for a mesma dos elétrons primários haverá um aumento na profundidade de penetração 33 ORIGEM DOS SINAIS Como foi discutido na seção anterior o elétron perde energia no seu caminho através do material Esta energia é então liberada da amostra de diferentes formas dependendo do tipo de interação entre o elétron primário e os átomos da amostra Como resultado das interações elásticas e inelásticas o elétron pode se tornar um elétron retroespalhado ERE com energia máxima igual a energia do elétron primário neste caso ocorreu somente uma única colisão Temse também a ocorrência de ionização com a produção de elétrons em todo o volume de interação Os elétrons produzidos deixam o material com uma energia média de 2 a 5 eV Esses elétrons são chamados de elétrons secundários e são provenientes de uma região de muito pouca profundidade cerca de 1 nm para os metais e 10 nm para o carbono É importante observar que os elétrons retroespalhados produzidos em regiões mais profundas na amostra também têm energia suficiente para originar elétrons secundários quando estão voltando para a superfície Isto significa que os elétrons secundários ES podem também ser gerados fora do volume de interação do elétron primário Esta produção de elétrons secundários pode inclusive ocorrer fora da amostra Por exemplo quando um elétron retroespalhado ERE Profª Ana Maria Maliska 31 Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise atinge a parede da câmara da amostra ou a parte inferior da coluna Estes efeitos estão representados esquematicamente na Fig 33 O resultado da ionização do átomo pela interação do elétron primário é a presença do vazio numa das camadas Uma das maneiras do átomo perder o excesso de energia é através da sua transferência para um elétron de outra camada resultando na formação de um elétron com energia característica do material Estes elétrons possuem energia máxima de cerca de 2 keV e são chamados de elétrons Auger Figura 33 Esquema da produção dos elétrons secundários e retroespalhados 3 O espectro de todos os elétrons provenientes da amostra quando a mesma é irradiada por um feixe com energia EP é mostrado na Fig 34 Os elétrons secundários possuem energia inferior a 50 eV e os elétrons retroespalhados energia superior a esta O elevado pico em torno dos elétrons primários é devido ao espalhamento Rutherford e este processo aumenta com o aumento do número atômico Z Portanto os elétrons retroespalhados emitidos pela amostra refletem o valor médio de Z do material este é o mais importante mecanismo de contraste dos ERE e que será visto na seção 34 Profª Ana Maria Maliska 32 Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise Figura 34 Espectro dos elétrons que deixam a amostra 3 Uma outra maneira do átomo preencher a vacância em uma de suas camadas é através da captura de um elétron de uma camada de maior energia Este elétron salta para uma camada de menor energia e a diferença na energia é emitida na forma de um quantum de raioX Como os níveis de energia de um átomo são fixos e como as transições permitidas de uma camada para outra são estabelecidas pelas leis da mecânica quântica a energia dos raioX é característica de cada átomo Os raiosX são produzidos em qualquer região pelos elétrons primários e têm suficiente energia para remover um elétron de uma camada interna de outro átomo No seu trajeto em direção a superfície o quanta de raioX pode ser capturado por um outro átomo e que por sua vez pode originar um outro raioX normalmente com menor energia Este fenômeno é conhecido como fluorescência influenciando na posição na qual os raiosX são emitidos e diminuindo também a quantidade de raiosX que seriam originalmente produzidos Se um elétron do feixe primário interage com o núcleo de maneira que o mesmo é retroespalhado existe uma força intensa movendo o elétron partícula carregada Como resultado desta interação uma onda eletromagnética é originada durante esta desaceleração Profª Ana Maria Maliska 33 Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise O resultado é a geração de raioX com energia ou comprimento de onda variando de 0 até o valor da radiação característica Como resultado da emissão de raiosX existem sempre cargas se movendo e esta radiação de desaceleração Bremsstrahlung é conhecida como raiosX contínuos A energia entregue à amostra pelo feixe de elétrons também pode ser liberada da amostra na forma de luz fótons O fóton de luz é originado em transições eletrônicas de baixa energia isto é transições da banda de condução para a banda de valência ou pela desexcitação de átomos ou moléculas Neste processo de emissão de luz que é chamado de catodoluminescencia os elétrons da camada externa são envolvidos A capacidade de um material emitir ou não luz como resultado de um bombardeamento eletrônico irá depender da sua estrutura e da sua transparência em relação ao comprimento de onda envolvido Minerais e materiais semicondutores são materiais que apresentam boa luminescência e neste caso a intensidade luminescente depende fortemente do tipo e da concentração dos dopantes 5 Se as amostras forem muito finas os elétrons serão capazes de atravessar o material emergindo com energia inferior e com um leve desvio em relação a direção do feixe incidente difração Esses elétrons que emergem da amostra com trajetória dependente da difração sofrida e com energia que traz informações da amostra são analisados pela Microscopia Eletrônica de Transmissão MET No caso da Microscopia Eletrônica de Varredura as amostras são espessas o suficiente para se assumir que o feixe eletrônico é totalmente desacelerado na amostra A quantidade de elétrons secundários que deixam a amostra iES está relacionado com o número total de elétrons que chegam na amostra elétrons primários iEP pelo coeficiente de emissão de emissão de elétrons secundários δ δ i ES i EP 31 Da mesma maneira para os elétrons retroespalhados ERE η i ERE i EP 32 Profª Ana Maria Maliska 34 Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise De tal maneira que o número total de elétrons que deixa a amostra é dado por i i i ES ERE EP iEP δ η σ a f i 33 Se σ 1 não ocorrerá o carregamento da amostra pois para cada elétron que atinge a amostra um elétron deixará a mesma Os valores de δ e η dependem da alta tensão voltagem do feixe selecionada e do tipo de material isto é do valor de Z da amostra Se η 1 existe um fluxo de elétrons deixando ou penetrando na amostra Na MEV o carregamento da amostra é compensado pelo aterramento da amostra Esta corrente de compensação é chamada de corrente da amostra CA O balanço da corrente é dado então por i i i EP ES ERE CA 34 ou i i CA EP 1 σ 35 Um esquema destas correntes de compensação é mostrado na Fig 35 Figura 35 Balanço da corrente total em uma espécie irradiada por um feixe de elétrons Como iES iERE pode ser igual ou maior que iEP a corrente da amostra pode ser positiva ou negativa dependendo do valor de σ A varredura do feixe de elétrons resulta Profª Ana Maria Maliska 35 Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise numa dependência da corrente com o tempo iES iERE e como iEP é constante a variação de iCA são complementares as de iES iERE Portanto a imagem feita com o sinal de CA é o complemento do sinal de ES ERE No caso de iCA for forçada a ser zero ou por ter desconectado a amostra ou por ser uma amostra não condutora existirá um fluxo de cargas para dentro ou para fora da amostra Como resultado ocorrerá um acúmulo de cargas positivas ou negativas com um efeito negativo sobre a imagem da amostra Por esta razão uma camada condutora isto é um metal é depositado sobre a superfície da amostra conforme será visto na próxima seção 34 IMAGEM POR ELÉTRONS SECUNDÁRIOS Elétrons secundários ES são elétrons que são ejetados de átomos da amostra devido a interações inelásticas dos elétrons energéticos do feixe primário com elétrons pouco energéticos da banda de condução nos metais ou de valência nos semicondutores e isolantes Por definição os elétrons que são emitidos da amostra com energia inferior a 50 eV são chamados de elétrons secundários Portanto os elétrons secundários são definidos somente com base na sua energia cinética Dentro desta faixa de energia é claro que sempre existirá alguns elétrons retroespalhados que perderam quase toda a sua energia mas como a sua contribuição é muito pequena eles podem ser efetivamente ignorados De todos os sinais que podem ser usados para análise de amostras no MEV o sinal de elétrons secundários é o mais usado e por isso nesta seção serão discutidas as principais características deste tipo de sinal 341 Distribuição de energia Devido a grande diferença entre a energia dos elétrons primários elétrons do feixe eletrônico e a dos elétrons da amostra somente uma pequena quantidade de energia cinética pode ser transferida para os elétrons secundários Enquanto que para os elétrons Profª Ana Maria Maliska 36 Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise secundários com energia de até metade da energia dos elétrons primários o número desses elétrons rápidos é muito pequeno quando comparado com os elétrons secundários pouco energéticos A grande maioria dos elétrons secundários possuem energia entre 2 e 5 eV sendo que cerca de 90 dos elétrons secundários emitidos pela amostra possuem energia inferior a 10 eV A posição exata do pico varia para os diferentes materiais Para o detector mais usado a posição exata do pico não afeta o sinal coletado como será visto mais adiante 342 Dependência dos ES com a composição da amostra e a energia dos ep O coeficiente de emissão dos elétrons secundários δ é praticamente insensível com a variação do Z dos elementos mas aumenta com a diminuição da energia do feixe incidente conforme pode ser visto na tabela 31 para o caso do Al e Au Este comportamento ocorre porque os elétrons secundários escapam da amostra de uma região muito superficial na ordem de nm de tal maneira que todos os elétrons originados em regiões mais profundas são perdidos na amostra Quando a energia do feixe de eP é reduzida em torno de 3 keV o mesmo penetra tão pouco que uma quantidade muito maior de es é produzida numa região bem superficial Tabela 31 Coeficiente de emissão dos elétrons secundários em função da energia do feixe 4 Elemento 5 keV 20 keV 50 keV Al 040 010 005 Au 070 020 010 343 Profundidade de escape dos elétrons secundários Uma das características dos elétrons secundários é a sua baixa profundidade de escape resultado direto da baixa energia com que são produzidos Os elétrons secundários eS são produzidos durante todo o caminho do elétron primário ep pela amostra como Profª Ana Maria Maliska 37 Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise conseqüência das interações inelásticas mas somente aqueles que se encontram próximos a superfície é que tem energia suficiente para escapar da amostra Os eS que são produzidos mais para o interior da amostra no seu caminho até a superfície devido ao espalhamento inelástico perdem muita energia Quando este elétron secundário alcançar a superfície é necessário que o mesmo possua energia suficiente para transpor a barreira de potencial superficial função trabalho que requer energia da ordem de alguns elétronvolts Como conseqüência desta forte atenuação dos elétrons secundários devido ao espalhamento inelástico a probabilidade de escape diminui exponencialmente com a profundidade p z esp λ 36 onde p é a probabilidade de escape z é a profundidade onde foi gerado o elétron secundário e λ é o caminho livre médio do elétron secundário Portanto as interações elétronamostra produzem elétrons secundários em todo o volume de interação mas somente aqueles que são gerados bem próximos a superfície é que escaparão da amostra e irão contribuir para o sinal Esta profundidade é de cerca de 1 nm para os metais e 10 nm para os materiais isolantes O coeficiente de emissão é mais baixo para os metais porque a formação de es ocorre principalmente devido as interações inelásticas entre o ep e elétrons da camada de condução que no caso dos metais são muito abundantes diminuindo então o livre caminho médio No caso dos isolantes a quantidade destes elétrons é muito reduzida o que causa um aumento do livre caminho médio Como foi visto anteriormente a probabilidade de um eS escapar da amostra diminui muito com a profundidade por exemplo para um feixe incidente com energia de 10 a 30 keV a probabilidade de escape dos elétrons secundários é cerca de 1100 da do elétrons retroespalhados Isto leva a pensar que os eS contém informações provenientes somente da região bem superficial da amostra o que não é verdade Profª Ana Maria Maliska 38 Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise Os ES são formados em todo o volume de interação do feixe eletrônico com a amostra mas somente aqueles gerados numa distância em que possa haver escape é que trarão informações para o microscopista Basicamente os elétrons secundários são gerados pelos elétrons do feixe primário a medida que o mesmo vai penetrando na amostra e também pelos elétrons retroespalhados quando estes vão deixando a amostra conforme foi visto na Fig 33 Esta maneira diferente de gerar os elétrons secundários faz com que os mesmos possam ser classificados em dois tipos conforme se encontra esquematizado na Fig 36 ESI são aqueles gerados quando o ep interage numa região menor que 5λ São os elétrons de alta resolução ESII A medida que o ep se espalha pela amostra irá gerar eS devido as colisões inelásticas Quando este elétron retroespalhado se aproxima da superfície a uma distância de 5λ os elétrons secundários gerados nesta região irão escapar da amostra na forma de ESII Os ESII são de baixa resolução e trazem informações do elétron retroespalhado Figura 36 Esquema da formação dos elétrons secundários 2 Quando o feixe de elétrons é de baixa energia 5 keV a quantidade de eP que irão atingir a amostra diminui e a quantidade de elétrons retroespalhados provenientes de regiões mais profundas da amostra também diminui enquanto que os elétrons secundários que escapam da amostra são independentes da energia dos elétrons primários Para um Profª Ana Maria Maliska 39 Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise feixe primário com energia no crossover igual a E2 onde η δ 1 a profundidade de escape dos elétrons primários e dos elétrons secundários é aproximadamente igual Com a diminuição da energia do feixe de primário temse um aumento de δ coeficiente de emissão dos elétrons primários significando um aumento da fração de energia consumida do feixe de elétrons primários na produção dos elétrons secundários que irão escapar da amostra 344 Resolução espacial Na microscopia eletrônica de varredura sinal que fornece a imagem de maior resolução e a dos elétrons secundários Isto é resultado da profundidade de onde são originados o sinais ou seja do volume de interação discutido na seção anterior O volume de interação pode ser descrito como tendo a forma de uma pêra ou de uma gota conforme pode ser visto na Fig 37 Figura 37 Volume de interação e origem de alguns sinais 3 Profª Ana Maria Maliska 40 Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise Para os sinais provenientes da região mais superficial da amostra a resolução é maior pois o sinal vem de uma área cuja seção transversal se aproxima do diâmetro do feixe Portanto reduzindo o diâmetro do feixe eletrônico irá resultar num sinal de elétrons secundários com melhor resolução maiores aumentos considerando que outros fatores como a relação sinalruído não sejam problemas Conforme visto no capítulo anterior considerando a formação e colimação do feixe através da coluna ótica para que se possa obter um feixe de elétrons com o mínimo diâmetro e com brilho é necessário que se tenha uma elevada voltagem de aceleração do feixe primário e é sob estas condições que as imagens de elevada resolução são obtidas no MEV Entretanto como resultado do processo de detecção dos elétrons secundários o sinal detectado contém também elétrons retroespalhados que irão influenciar na resolução espacial Esta influência será maior quanto maior for a voltagem do feixe Sob essas circunstâncias a redução do kV entre 20 25 kV pode ser benéfica pois irá diminuir o volume de interação 345 Detecção dos elétrons secundários O detetor mais usado na microscopia eletrônica de varredura é o detetor do tipo EverhartThornley ET O detetor é formado pelo cintilador tubo de luz e a fotomultiplicadora O detetor é isolado elétricamente do resto do microscópio e possui na sua frente uma grade com potencial de 300 eV Os elétrons secundários que possuem energia inferior a 50 eV são atraídos por esta grade carregada positivamente Este sistema permite coletar com muita eficiência os elétrons secundários provenientes da amostra sua trajetória sendo inclusive defletida em direção ao detetor Fig 38 Uma pequena fração de elétrons retroespalhados também atinge o detetor Todos os elétrons que penetram no detector são acelerados em direção ao cintilador por uma voltagem de 10 kV aplicada a um filme de alumínio depositado sobre o cintilador Esse potencial deve ser alto para permitir que os elétrons tenham energia suficiente para produzir fótons de luz quando atingirem o cintilador Esses fótons através de um guia de luz são conduzidos a uma fotomultiplicadora onde são transformados num sinal elétrico Através de uma janela ótica montada na parede da câmara de amostras permite que a luz Profª Ana Maria Maliska 41 Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise gerada pelo cintilador seja captada pela fotomultiplicadora que se encontra fora da câmara Com esta montagem a fotomultiplicadora não precisa estar sob o vácuo do microscópio e deixando também mais espaço livre na câmara para manipulação da amostra e de outros detetores A luz ao atingir a fotomultiplicadora cria um cascata de elétrons gerando um sinal que é amplificado até 108 vezes Este sistema permite uma grande amplificação do sinal ES as custas de muito pouco ruído desde que o cintilador seja eficiente Figura 38 Esquema da captação de ES e ERE pelo detetor EvehartThornley onde FM é a fotomultiplicadora e TB é o tubo de luz 2 A polarização da grade na frente do detetor pode ser alterada continuamente de um valor máximo de 300 volts onde os ES são coletados até aproximadamente 200 volts onde os ES são repelidos totalmente Neste caso somente os ERE que são emitidos com alta energia é que poderão ser captados pelo detetor já que este potencial praticamente não afeta sua trajetória No entanto a utilização desse detector para ERE não produz uma imagem com bom contraste porque o sinal recebido é muito fraco Isso está relacionado com a trajetória dos ERE e com a posição do detector localizado normalmente na parte lateral da câmara a aproximadamente 90o com o feixe de EP Este sinal de ERE sempre estará presente independente da polarização da grade mas quando esta for positiva os mesmos serão altamente mascarados pela grande quantidade de elétrons secundários O detector de ES é bastante eficiente sem ser obstrutivo e as imagens de ES são aparentemente fáceis de interpretar É basicamente por esta razão que a imagem de elétrons secundários é a mais comumente usada na microscopia eletrônica de varredura Profª Ana Maria Maliska 42 Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise 346 Mecanismos de contraste A imagem observada no MEV é o resultado da variação de contraste que ocorre quando um feixe de elétrons primários varre a superfície da amostra em análise ponto a ponto De maneira geral as variações de contraste ponto a ponto ocorrem devido a variação do número de elétrons que são emitidos da amostra e que atingem o detector As informações contidas numa imagem só podem ser corretamente interpretadas se o mecanismo que originou este contraste for corretamente entendido Por esta razão a seguir serão explicados os mais importantes mecanismos de contraste associados com as imagens de elétrons secundários Influência da topografia contraste de orientação Este tipo de contraste é mais facilmente entendido analisando uma amostra de superfície rugosa como a esquematizada na Fig 39 Os elétrons que são emitidos do ponto A não sofrem obstrução no seu caminho em direção ao detector sendo praticamente todos captados e de grande contribuição para o sinal Já os elétrons emitidos no ponto B tem seu caminho obstruído em direção ao detector podendo ser reabsorvido pela amostra O resultado é que as regiões que estão direcionadas para o detector aparecem mais claras do que aquelas que se encontram escondidas Estas regiões que se encontram ocultas ao detector poderão estar sendo bombardeadas pelos EP e consequentemente emitindo ES Esses ES podem ser coletados pelo detector graças ao campo elétrico aplicado na grade do detector que deforma a trajetória do ES Mas mesmo neste caso a intensidade do sinal é diminuída Influência da inclinação da superfície A intensidade de ES que atingem o detector varia com a inclinação da amostra em relação ao feixe de EP Ao inclinarse a superfície da amostra a emissão de ES aumenta segundo a relação emissão 1 cosφ 37 Profª Ana Maria Maliska 43 Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise onde φ é o ângulo entre o feixe de EP e a normal a superfície da amostra A medida que φ aumenta a emissão aumenta proporcionalmente Em outras palavras o número de elétrons secundários gerados por elétron primário incidente aumenta a medida que a amostra é inclinada aumentando o contraste Fisicamente o que ocorre é que os EP têm um maior número de interação próximo a superfície aumentando assim a probabilidade de aumentar a produção de ES Pequenas rugosidades e detalhes na superfície podem tornarse visíveis aumentandose a inclinação da amostra Os ângulos de inclinação mais indicados para os detectores de ES ficam na faixa de 30 a 45o Influência das arestas bordas Existe um aumento da intensidade do sinal nas bordas de certas amostras A causa deste efeito está ilustrado na Fig 39 Quando o feixe eletrônico atinge a amostra no ponto A somente os ES gerados a poucos nanometros da superfície é que são capazes de escapar da amostra e contribuir para o sinal Quando os elétrons atingem o material na posição B maior quantidade de ES são gerados porque neste caso os elétrons sairão de uma região maior do volume de interação Figura 39 Ilustração do efeito das bordas na formação do elétrons secundários 3 Profª Ana Maria Maliska 44 Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise O efeito das bordas é muito importante sobre o contraste da amostra quando o grau de aspereza da amostra é da mesma ordem ou menor que o volume de interação Como o volume de interação é maior para materiais de baixo número atômico nestas amostras este tipo de contraste é muito importante A redução na voltagem de aceleração do feixe irá produzir um menor volume de interação e consequentemente menor efeito do contraste de arestas Contraste de composição Dependendo do mecanismo de formação os elétrons secundários podem ser divididos em 3 tipos ESI ESII e ESII Conforme foi visto na seção 343 os ESI são produzidos diretamente pelos elétrons primários do feixe quando estes estão penetrando na amostra e os do tipo ESII são resultantes da interação dos elétrons retroespalhados quando da sua saída da amostra 23 Foi mencionado anteriormente que o coeficiente de emissão dos elétrons retroespalhados está relacionado com o número atômico do material Como os ES do tipo II são gerados pelos elétrons retroespalhados eles também irão conter informações sobre a composição química da amostra e informações de uma profundidade associada com estes elétrons altamente energéticos Somente os ES do tipo I é que contém as informações da superfície Nos materiais de baixo número atômico estes sinais são a maior proporção dos ES total que deixam a amostra A medida que o número atômico aumenta a proporção do tipo I para o tipo II cai consideravelmente Por exemplo em amostras de carbono a contribuição do tipo I para o sinal de ES é de aproximadamente 87 caindo para cerca de 50 no caso do cobre O terceiro tipo de sinal de elétrons secundários ESIII se origina dos elétrons retroespalhados emitidos pela amostra a partir da interação com partes do microscópio tais como a base da lente objetiva e as paredes da câmara Assim como acontece com os elétrons secundários do tipo II a quantidade do tipo III produzida também está diretamente relacionada com o coeficiente de emissão dos elétrons retroespalhados mas neste caso a Profª Ana Maria Maliska 45 Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise emissão também depende da geometria da câmara e da lente final bem como do material usado para a sua construção Contraste de voltagem e carregamento Na configuração normal de um Microscópio Eletrônico de Varredura a amostra se encontra aterrada e a grade do detector de elétrons secundários no modo standard em um potencial positivo em relação ao terra normalmente 300 volts Se uma amostra condutora for colocada no suporte existirá então um gradiente de potencial entre a grade do detector e a superfície da amostra Como conseqüência deste gradiente qualquer elétron que deixa a superfície da amostra será atraído em direção ao coletor pelo gradiente de potencial existente A intensidade desta força de atração e consequentemente a eficiência do coletor em captar os elétrons secundários será maior para as regiões da superfície que se encontram mais próximas ao detector É por isso que para baixos aumentos M 50 isto é grande região da amostra um gradiente de brilho pode ser observado na imagem de elétrons secundários Este mecanismo de contraste será alterado caso a amostra apresente regiões com diferentes potenciais Por exemplo uma região com potencial positivo irá provocar uma redução na força de atração exercida pela grade do detector de tal maneira que esta região irá aparecer mais escura na imagem do que as regiões que se encontram com potencial zero aterradas Da mesma maneira aquelas regiões que se encontram com potencial negativo irão aparecer mais claras Este mecanismo de contraste é chamado de contraste por voltagem e é bastante útil para a indústria de semicondutores Um outro tipo de contraste por voltagem e que no caso não é bem vindo é o fenômeno de carregamento que nos casos mais amenos pode introduzir artefatos na imagem e nos piores casos pode produzir distorções e instabilidade tão severas que não é possível obter a imagem O carregamento normalmente ocorre em amostras não condutoras e que não foram recobertas por um material condutor Durante a obtenção da imagem regiões não condutoras da superfície vão gradualmente acumulando cargas negativas a medida que o feixe vai varrendo a superfície Esta grande quantidade de cargas negativas Profª Ana Maria Maliska 46 Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise irá afetar a eficiência do detector de elétrons primários produzindo uma região escura em torno destas áreas muito carregadas A maneira mais eficiente e mais usada para evitar o carregamento da amostra é através do depósito de uma fina camada de um material condutor Au Pd C Uma outra maneira de obter imagem de amostras pouco condutoras sem que se tenha que recobrir a amostra é através do uso de baixa voltagem de aceleração no feixe de elétrons primários Isto se torna possível porque o coeficiente de emissão dos elétrons secundários depende da voltagem do feixe Para a maioria dos materiais o uso de voltagem entre 1 a 3 kV não produz carregamento na amostra Nos microscópios mais antigos não era possível trabalhar com voltagens tão baixas mas com as inovações introduzidas no canhão e na coluna é possível obter resolução de até 25 nm em tais condições Atualmente com o advento do microscópio ambiental cuja câmara não precisa ficar sob vácuo é possível trabalhar com voltagens elevadas sem que ocorra o carregamento da amostra No microscópio ambiental é usado um gás na câmara da amostra normalmente vapor dágua e que se torna ionizado como conseqüência da interação com os elétrons do feixe os elétrons retroespalhado e os elétrons secundários Os ions positivos gerados neste processo são atraídos para as regiões da superfície da amostra onde as cargas se encontram acumuladas anulando o campo local e eliminando o carregamento Outros tipos de contraste como o cristalográfico e o magnético existem mas sua contribuição para o contraste da imagem é muito fraca quando comparada com os anteriores 35 IMAGEM POR ELÉTRONS RETROESPALHADOS O sinal de elétrons retroespalhados resulta de uma seqüência de colisões elásticas e inelásticas no qual a mudança de direção é suficiente para ejetálo da amostra Os elétrons retroespalhados produzem um sinal muito importante para a obtenção de imagens no MEV As principais características do sinal de ERE serão discutidas nesta seção Profª Ana Maria Maliska 47 Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise 351 Distribuição de energia Os elétrons retroespalhados por definição possuem energia varia entre 50 eV até o valor da energia do elétron primário Os elétrons retroespalhados com energia próxima a dos elétrons primários são aqueles que sofreram espalhamento elástico e são estes que formam a maior parte do sinal de ERE 352 Profundidade de escape Conforme mencionado na seção anterior os elétrons retroespalhados de alta energia são aqueles que resultam de uma simples colisão elástica sendo portanto oriundos da camada mais superficial da amostra Logo se somente os elétrons retroespalhados de alta energia forem captados as informações de profundidade contidas na imagem serão poucas quando comparadas com a profundidade de penetração de penetração do feixe 353 Resolução espacial O sinal de ERE resultante das interações que ocorreram mais para o interior da amostra ERE com baixa energia são provenientes da região do volume de interação com maior diâmetro do que o diâmetro do feixe primário Portanto a resolução da imagem gerada por esses elétrons é pior do que a resolução da imagem correspondente dos ES Deixando de lado os parâmetros do microscópio isto é diâmetro do feixe alta voltagem a resolução também irá depender do material da amostra Quanto maior o Z do material menor o volume de interação e consequentemente maior a resolução 354 Detecção dos elétrons retroespalhados Basicamente existem dois tipos de detectores de ERE os de estado sólido e os à base de cintilador O detector de cintilador tem um princípio de funcionamento semelhante aos detectores EvehartThornley isto é consistem de uma tela fluorescente um tubo de luz e uma fotomultiplicadora Para o detectore de estado sólido não é necessário o uso da grade coletora pois estes elétrons são elétrons de elevada energia Os detectores de estado sólido consistem de uma Profª Ana Maria Maliska 48 Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise junção PN que fica entre a lente final e a amostra portanto na posição da trajetória dos ERE para aumentar a eficiência da coleta Esses elétrons ao penetrarem no detector geram pares elétronburaco e gerando um fluxo de corrente que é amplificado e tratado de forma adequada para produzir a imagem 355 Mecanismos de contraste O mecânismo de contraste mais importante dos ERE é o contraste de composição pois o coeficiente de emissão η dos elétrons retroespalhados está diretamente relacionado com o número atômico Em 1966 Heinrich 34 mostrou que o coeficiente η aumenta com o número atômico da amostra bombardeada conforme pode ser visto na Fig 310 O mesmo não acontece com os ES isto é esta dependência não ocorre Figura 310 Variação do coeficiente de emissão com o número atômico4 Analisando os resultados da Fig 310 podemos concluir que 1 Existe um crescente aumento do coeficiente de emissão dos elétrons retroespalhados η com a composição do material sendo a base para o mecanismo de contraste do número atômico também chamado contraste de composição Profª Ana Maria Maliska 49 Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise 2 A inclinação da curva η x Z diminui para grandes Z acima de 50 de tal maneira que o mecanismo de contraste por composição dos ERE é mais elevado para materiais com baixo Z 3 Examinando mais detalhe a curva observase que para elementos adjacentes o crescimento de η com Z não é bem definido de tal maneira que neste caso o contraste por número atômico não é evidente O contraste resultante deste mecanismo permite que se distinga numa imagem regiões com diferente composição O sinal de ERE também contem informações sobre a topografia da amostra pois o coeficiente de emissão dos elétrons retroespalhados depende do ângulo de incidência do feixe de elétrons primários com a superfície da amostra Em alguns casos a imagem de ERE consiste de contraste de composição e contraste topográfico Já o contraste cristalográfico tem pouca influencia na imagem de ERE Profª Ana Maria Maliska 50 Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise CAPÍTULO QUATRO MICROANÁLISE POR ENERGIA DISPERSIVA 41 INTRODUÇÃO A microanálise é um dos mais importantes instrumentos para a análise química de materiais orgânicos e inorgânicos Através da identificação dos raiosX emitidos pela amostra quando da interação com o feixe eletrônico é possível determinar a composição de regiões com até 1 µm de diâmetro É uma técnica não destrutiva podendo determinar quantidades de até 12 dos elementos presentes na amostra A detecção dos raiosX emitidos pela amostra pode ser realizada tanto pela medida de sua energia EDS como do seu comprimento de onda WDS Os detectores baseados na medida de energia são os mais usados cuja grande vantagem é a rapidez na avaliação dos elementos Uma amostra contendo elementos na ordem de 10 ou mais pode ser identificado em apenas 10 s e cerca de 100 s para avaliar um elemento na ordem de 1 Apesar da menor resolução da espectroscopia por energia dispersiva 140 eV para a raia Kα do Mn quando comparada com os espectrometros por comprimento de onda 510 eV esta técnica permite obter resultados quantitativos bastante precisos Uma outra característica importante da microanálise é a possibilidade de se obter o mapa composicional da região em observação permitindo que se correlacione a metalografia ótica ou eletrônica com informações microcomposicional detalhada Neste capítulo serão apresentadas as noções básicas da microanálise especificamente sobre a microanálise por energia dispersiva tendo em vista que é este tipo de detector que se encontra acoplado ao MEV instalado no LabmatEMCUFSC 42 BREVE HISTÓRICO Em 1913 Moseley observou que a freqüência de emissão dos raiosX característicos é função do número atômico dos elementos presentes na amostra Esta descoberta deu origem a técnica de análise espectroquímica na qual os elementos presentes numa amostra podem ser identificados através do espectro de raiosX emitido pela amostra No entanto a Profª Ana Maria Maliska 51 Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise área analisada era muito grande 1 mm2 A idéia da microanálise eletrônica na qual um feixe de elétrons era usado para excitar uma pequena área 1 µm e que incluía o uso do microscópio ótico para focar a área foi primeiramente patenteado na década de 40 Marton 1941 Hillier 1947 Mas foi somente em 1949 que R Casting sob a supervisão de Guinier descreveu e construiu o primeiro aparelho chamado de microssonda eletrônica ou microanálise eletrônica 12 Em sua tese de doutorado Castaing demonstrou a a possibilidade de se realizar a análise química qualitativa e quantitativa de uma região localizada Durante o início da década de 50 vários equipamentos foram desenvolvidos em laboratórios da Europa e Estados Unidos Em 1956 foi construído a primeira microssonda comercial pela CAMECA na França baseado no modelo construído por Castaing Os elétrons produzidos pelo canhão de elétrons são reduzidos por lentes formando um feixe eletrônico com diâmetro de aproximadamente 01 a 1 µm Faziam parte do instrumento um microscópio ótico para focar com precisão a região a ser analisada e espectrometros para analisar a intensidade da radiação emitida Em 1956 Cosslet e Duncumb projetaram e construíram a primeira microssonda de varredura nos laboratórios Cavendish em Cambridge Ao contrário das microssondas anteriores cujo feixe era estático o feixe poderia ser varrido sobre a amostra como é feito com os microscópios de varredura Apesar do conceito da análise química localizada ser um grande incentivo para o uso da microanálise somente com a introdução da varredura é que a microanálise realmente começou a ser bastante utilizada e tem se popularizado cada vez mais com o uso dos espectrometros por energia dispersiva O desenvolvimento dos espectrometros por energia dispersiva usando o detector de Si Fitzgerald 1968 revolucionou a microanálise e é atualmente o sistema mais encontrado nos microscópios eletrônicos de varredura para medida dos raiosX emitidos Desde o desenvolvimento dos primeiros aparelhos de microanálise eletrônica muitos avanços têm sido feito em relação aos materiais principalmente usados para captar a radiação e com o advento do computador tem facilitado muito a análise dos resultados Profª Ana Maria Maliska 52 Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise 43 ORIGEM DOS SINAIS Durante a interação inelástica do feixe de elétrons com a amostra raiosX podem ser gerados de duas maneiras excitação de raiosX Bremsstrahlung ou raiosX contínuos ionização de camadas internas dando origem a emissão dos raiosX característicos Estas radiações dão origem a dois diferentes componentes do espectro de raiosX um componente característico que identifica o átomo ou átomos presentes no volume de interação e o componente contínuo não específico e que forma o background 431 Radiação Contínua Quando um elétron com determinada energia é desacelerado pela interação com o núcleo pesado da amostra a energia que ele perde aparece na forma de radiação como um fóton de raiosX O elétron interage com o núcleo carregado através do campo coulombiano transferindo quantidade de movimento para o núcleo e a desaceleração resultante causa a emissão do fóton A massa do núcleo é tão grande que a energia que ele adquire nesta colisão com o elétron pode ser considerada desprezível Os elétrons do feixe incidente podem perder diferentes quantidades de energia nessas colisões e em geral um elétron chegará ao repouso apenas depois de uma a várias colisões Os raiosX assim produzidos pelos elétrons constituem o espectro contínuo A Fig 41 apresenta a forma geral do background contínuo O espectro contínuo se estende desde o raioX com energia zero até o raioX com energia igual a energia total do elétron incidente Esta energia corresponde ao feixe de elétron que perdeu toda a sua energia num único evento A intensidade do background é função do número atômico Z e da corrente i do feixe Seu valor é zero para a energia do elétron incidente Eo e aumenta a medida que a energia diminui Devido a absorção dos raiosX de baixa energia pelo detector o background detectado difere do background gerado Profª Ana Maria Maliska 53 Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise a b Figura 41 Diagrama esquemático da variação da intensidade do espectro contínuo e do espectro característico com a energia 4 432 Radiação característica O elétron do feixe incidente pode interagir com os elétrons de camadas mais interna causando a ejeção do mesmo e deixando uma vacância nesta camada O átomo fica então num estado excitado estado energético e cuja tendência é voltar ao estado fundamental em apenas 1 ps através de uma série de transições permitidas dos elétrons de camada externas para preencher o vazio da camada interna A energia dos elétrons nas camadas externas são altamente definidas com valores característicos para cada átomo A diferença de energia na transição de camadas mais externas para camadas mais internas é também característica de cada átomo e pode ser liberada de duas maneiras conforme representado na Fig 42 Processo Auger é uma transição não radioativa onde a diferença de energia entre uma camada e outra pode ser transmitida para um elétron de camada mais externa causando a emissão de um elétron elétron Auger com energia cinética específica Processo de raiosX característico é uma transição radioativa onde a diferença de energia é expressa como um fóton de radiação elétromagnética com energia altamente específica em contraste com o processo de Bremsstrahlung A energia do fóton de raiosX emitido é uma função dos níveis de energia do átomo Como o nível de energia dos átomos são bem definidos e característicos de cada tipo de Profª Ana Maria Maliska 54 Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise átomo a energia do fóton de raioX é específica de cada elemento e contém as informações sobre a composição química de cada espécie e ejetado de um orbital interno elétron primário espalhado eBSE eERE e p ep Emissão de Elétron Auger Emissão de um fóton de raioX Relaxação e emissão do fóton Figura 42 Representação esquemática da ionização de uma camada interna e subsequente desexcitação por transições dos elétrons 3 Como o espectro total de raiosX coletado é formado pela radiação característica e pela Bremsstrahlung e como a radiação característica fornece as principais informações sobre a composição da amostra a separação da radiação contínua é um importante procedimento para a quantificação da composição da amostra Profª Ana Maria Maliska 55 Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise Níveis atômicos de energia A quantidade de energia de cada camada varia de maneira discreta com o número atômico e mesmo quando o número atômico muda somente de uma unidade a diferença de energia entre as camadas varia significativamente Em cada camada os elétrons de um átomo ocupam níveis de energia específicos conforme ilustrado na Fig 43 e estes níveis de energia de cada átomo são descritos pelos números quânticos principal n designado por K L M N etc orbital l designado por s p d f spin j e magnético m O arranjo dos elétrons em um átomo é controlado pelo princípio de exclusão de Pauli que impõe a restrição de que dois elétrons não podem ter o mesma série de número quântico e consequentemente a mesma energia Aumento da Energia Elétron K removido K L N M Excitação K Excitação L N Elétron L removido Elétron M removido Elétron N removido Elétron de valência removido Kα Emissão Kβ Kα Lα Mα Figura 43 Diagrama dos níveis de energia de um átomo mostrando a excitação das camadas K L M e N e a formação de raiosX Kα Kβ Lα e Mα 3 As letras gregas α β γ etc são usadas para designar a ordem da intensidade dos raiosX provenientes de uma determinada camada excitada Profª Ana Maria Maliska 56 Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise 433 Energia crítica de ionização A ionização de camadas internas ocorre quando o elétron é removido de uma camada interna e ejetado do átomo Como cada camada e subcamada interna tem sua energia bem definida para retirar um elétron de uma determinada camada é necessário uma energia crítica de ionização também conhecida como energia crítica de excitação ou energia de raiosX de absorção Cada camada ou subcamada de um átomo requer uma energia mínima específica como por exemplo o caso da platina mostrado na Tab 41 A energia crítica de ionização é um parâmetro muito importante no cálculo da intensidade dos raiosX Tabela 41 Energia crítica de ionização da platina Camada Energia crítica de Ionização KeV K 7839 LI 1388 LII 1327 LIII 1156 MI 3296 MII 3026 MIII 2645 MIV 2202 MV 2122 434 Energia dos raiosX característicos A desexcitação do átomo após a ionização retirada do elétron é realizada através da transição dos elétrons de uma camada ou subcamada para outra A estrutura das camadas de elementos com número atômico 11 sódio é suficientemente complexa de maneira Profª Ana Maria Maliska 57 Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise que quando ocorre a ionização da camada mais interna K a transição para preencher esta vacância pode ocorrer a partir de mais de uma camada Conforme mostrado na Fig 43 a partir da ionização da camada K a transição para preencher esta vacância pode ocorrer tanto da camada M quanto da camada L Como os elétrons destas camadas externas possuem diferentes energias os raiosX criados à partir destas duas camadas também têm energias diferentes e são designados diferentemente A notação usada para designar as transições são as normalmente usadas na espectrometria de raiosX onde as letras K L M N designam a camada em que ocorreu a ionização de onde foi retirado o elétron as letras gregas minúsculas α β γ designam a camada a partir da qual saiu o e para preencher o vazio deixado pela ionização sendo α a mais provável transição os subíndices 123 designam a transição entre as subcamadas Observando então a Fig 43 temse que a radiação Kα resulta da retirada de um elétron da camada K e saída de um elétron da camada L para ocupar esta posição A radiação Kβ ocorre quando um elétron da camada M se move para ocupar a posição na camada K A radiação Kβ sempre será levemente mais energética do que a Kα e será sempre muito menos intensa De maneira semelhante a radiação Lα resulta da transição de um elétron da camada M para ocupar uma vacância na camada L enquanto que a radiação Lβ significa que ocorreu a transição de um elétron da camada N para a camada L A radiação Lβ é sempre menor e levemente mais energética do que a radiação Lα As radiações das camadas L são sempre menos energéticas do que as as radiações K Se os picos das radiações M estiverem presentes serão sempre menos energéticos que as séries L e K A Fig 44 mostra as possíveis transições para o caso do carbono e do sódio No caso do átomo de carbono Z6 Fig 44a sua estrutura só permite criar a radiação Kα Apesar de poder ser ejetado elétron da camada L não existe elétron na M para preencher o vazio Portanto ocorrerá somente um pico para o carbono Já no caso do átomo de sódio Z11 formado pelas camadas K L e M pode ocorrer tanto a transição Kα energia 1041 keV como a Kβ energia 1071 keV Entretanto a radiação Kβ são raras de acontecer 1100 do Profª Ana Maria Maliska 58 Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise Kα A radiação Lα 0030 KeV também pode ocorrer só que não pode ser medido Energias abaixo de 02 KeV são difíceis de serem medidas Kα KαΙΙ K 2 LI 2 LII 2 Kα Kβ K 2 L 8 M 1 Lα a b Figura 44 Diagrama esquemático das possíveis transições para os átomos de Na a e C c É importante observar que a energia do raioX característico é sempre menor que a energia crítica de ionização Isto ocorre porque a ionização do átomo acontece pela retirada do elétron de uma camada interna do átomo enquanto que os raiosX característicos são formados pela transição entre as camadas 435 Elétrons Auger Quando um átomo é ionizado pela ejeção de um elétron de uma camada interna este átomo tende a se desexcitar pela transição de um elétron de uma camada intermediária para ocupar esta vacância Esta transição pode produzir a emissão de um fóton de raioX característico ou a emissão de outro elétron de uma camada mais externa que absorveu o fóton conforme ilustrado na Fig 42 Este elétron emitido é chamado de elétron Auger que possui uma energia característica do átomo Os elétrons Auger e os raiosX característicos podem ser medidos simultaneamente e em princípio fornecem informações sobre a composição da amostra A maior diferença entre esses sinais está na sua profundidade de emissão Tanto o raioX como o elétron Auger são resultantes de ionizações de camadas interna entretanto a propagação do raioX e do elétron Auger pela amostra é completamente diferente O raioX ao se propagar pela amostra tem baixa probabilidade de sofrer espalhamento inelástico de tal maneira que os raiosX que não são totalmente absorvidos por efeito fotoelétrico atingem a superfície sem mudança de energia Logo esses raiosX Profª Ana Maria Maliska 59 Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise fornecem informações sobre o átomo de onde foram emitidos independente da profundidade do volume de interação No caso do elétron Auger a probabilidade que ocorra espalhamento inelástico com perda de energia é muito grande de tal maneira que a medida que o mesmo se propaga pela amostra irá perdendo energia e consequentemente não pode ser usado para identificar o átomo de onde foi emitido Somente elétrons Auger de uma região muito superficial 12 nm com energia entre 50 eV 1 keV podem ser ejetados da amostra sem variação de energia Os demais mais profundos podem escapar da amostra mas sua energia é tão baixa que formarão o background Portanto a espectroscopia Auger fornece informações da amostra da profundidade de 1nm independente do volume de interação Já a espectroscopia de raiosX fornece informações de 1 µm ou mais de profundidade 44 CARACTERÍSTICAS DA RADIAÇÃO DE RAIOSX RaiosX contínuos são formados como resultado das interações inelásticas do feixe primário na qual os elétrons são desacelerados e perdem energia sem que ocorra a ionização de átomos da amostra A radiação contínua forma o background no espectro de energia dispersiva e é também chamado de bremsstrahlung A intensidade da radiação contínua está relacionada com o número atômico da amostra e com a energia do feixe de elétrons A radiação contínua também aumenta com a corrente do feixe A interação inelástica entre o feixe primário e os elétrons de camadas mais internas do átomo causando a ionização do mesmo retirada do elétron do átomo irá resultar na formação da radiação característica do átomo Na espectroscopia por energia dispersiva EDS energydispersive spectroscopy os raiosX são distribuídos no espectro por ordem de sua energia e mais comumente do baixo número atômico baixa energia para elevado Z alta energia conforme pode ser visto no espectro da Fig 45 Profª Ana Maria Maliska 60 Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise Figura 45 Espectro por energia dispersiva mostrando a ordem dos números atômicos para os picos da série K Normalmente são usados os picos de energia entre 0 e 10 keV o que permite a observação das seguintes raias raias K para o Be Z 4 até o Ga Z 31 raias L desde o Ca Z 20 até o Au Z 79 raias M para o Nb Z 41 até o mais alto número atômico A partir das informações contidas no espectro de raiosX é possível obter informações qualitativas e quantitativas acerca da composição da amostra em escala microscópica 441 Resolução espacial Conforme visto no capítulo anterior a resolução dos diversos sinais emitidos pela amostra quando da interação do feixe de elétrons primários é resultante do volume de interação Fig 37 sendo que a profundidade de penetração do feixe aumenta com o aumento da voltagem de aceleração do feixe primário O volume de interação também será mais profundo quando o material for de baixa densidade ou seja a composição da amostra for de um baixo Z 6 Todos três tipos de sinais analisados ES ERE e raiosX são gerados em todo o volume de interação desde que o feixe de elétrons tenha energia suficiente para formálos Entretanto alguns elétrons ou raiosX de baixa energia podem Profª Ana Maria Maliska 61 Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise ser gerados mais profundamente e não terem energia suficiente para escaparem da amostra sendo absorvidos pela mesma Dentre os sinais mais usados na microscopia eletrônica de varredura os sinais de ES são os que mais são absorvidos pela amostra e só aqueles gerados bem próximos a superfície menor que 10 nm é que poderão ser captados pelo detector O sinal de ERE é um sinal de maior energia podendo ser emitido da amostra de regiões mais profundas Já o sinal de raiosX é o que provem da região mais profunda do volume de interação apesar de ocorrer a absorção do sinal dependendo da sua energia Por exemplo o oxigênio é um elemento de baixa energia e só consegue escapar de regiões bem superficiais já o ferro é um elemento de maior energia e consegue escapar de uma região mais profunda Na análise quantitativa é possível compensar estes efeitos usando correção de absorção No capítulo de formação de imagens mencionado somente a profundidade de escape do feixe como a responsável pela resolução do sinal no entanto sabese que a largura do volume de interação é que determina a resolução do sinal e que esta é proporcional a profundidade de emissão É por esta razão que apesar do sinal de ES ser um sinal menos energético ele fornece maior resolução pois provem de uma região mais superficial e portanto com menor largura do volume de interação No caso dos raiosX que vem de uma região mais profunda principalmente no caso dos raiosX mais energéticos o espalhamento lateral do feixe primário torna o diâmetro deste sinal muito maior do que o do feixe primário 442 Direcionalidade do sinal Os sinais que emergem de uma amostra sempre possuem uma direção preferencial Esta direcionalidade pode ser reconhecida na fotomicrografia de uma amostra com relevo quando a mesma apresenta regiões mais claras e mais escuras As regiões mais claras resultam do contraste mais intenso das regiões que estão direcionados para o detector e as que não estão direcionadas aparecerão escuras Se a trajetória do sinal puder ser alterada para que se tenha uma melhor captálo do sinal este fenômeno será minimizado É o que acontece com os sinais de ES cujo detector possui uma grade positiva para atrair os elétrons secundários da amostra mesmo aqueles que são ejetados de regiões opostas ao detector Profª Ana Maria Maliska 62 Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise O sinal de raiosX é o mais influenciado pelo fenômeno do direcionamento porque além do detector estar posicionado normalmente formando um ângulo de 35 graus com a superfície da amostra não existe uma maneira de influenciar a trajetória dos raiosX para melhorar a eficiência do detector Como resultado a contagem dos raiosX será muito reduzida para uma superfície que não se encontra direcionada para o detector É para evitar o efeito da direcionalidade que se recomenda o uso de amostras polidas para a microanálise 443 Profundidade de excitação Os elétrons do feixe primário a medida que vão penetrando na amostra e interagindo com os átomos vão perdendo sua energia Como resultado o elétron pode perder uma quantidade de energia de tal maneira que não poderá mais excitar a radiação característica da amostra Isto ocorre quando a energia do elétron primário se torna menor que a energia crítica de ionização dos elementos na amostra Cada elemento na amostra tem sua energia crítica de ionização e sua profundidade de excitação A razão entre a energia do feixe primário e a energia de excitação do elemento é conhecida como overvoltage Como regra geral a overvoltage deve ser maior ou igual a dois para a análise de EDS 444 Absorção do raioX Os raiosX sendo uma radiação eletromagnética podem sofrer o fenômeno da absorção fotoelétrica ao interagir com o átomo Isto é o fóton de raioX ao invés de ser emitido pelo átomo pode ser completamente absorvido por um elétron de um orbital Este elétron será ejetado para outra camada do átomo com energia igual a do fóton menos a energia crítica de ionização Para que ocorra a absorção fotoelétrica pelo elétron em uma determinada camada é necessário que a energia do fóton exceda a energia de ionização do elétron Quando a energia do fóton é levemente maior que a energia de ionização a probabilidade de absorção é maior Este fenômeno de absorção fotoelétrica ocorre principalmente em amostras de baixo Z onde raiosX pouco energéticos são gerados em todo o volume de penetração do feixe primário Esses raiosX menos energéticos formados serão facilmente absorvidos pela Profª Ana Maria Maliska 63 Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise amostra e poucos deles conseguirão realmente escapar da amostra exceto aqueles que são gerados bem próximos a superfície A perda dessa radiação deve ser corrigida durante a análise quantitativa A razão entre os raiosX absorvidos e os emitidos aumenta com o aumento da voltagem de aceleração Como conseqüência é preciso tomar cuidado com o limite máximo da overvoltage não deve ser maior que 20 para a análise qualitativa e maior que 10 para a análise quantitativa 445 Fluorescência de raiosX Os raiosX característicos podem também ser produzidos por outros raiosX ou por outros elétrons de elevada energia Neste caso o fóton de luz é absorvido por um elétron efeito fotoelétrico e este elétron passa para outra camada deixando um vazio O átomo fica então ionizado e temse uma subsequente desexcitação voltando para o estado fundamental através da emissão de um fóton de raioX ou de um elétron Auger Este fenômeno da emissão de raioX é conhecido como fluorescência induzida de raiosX ou fluorescência de raiosX No caso de uma amostra composta pelos elementos A e B em que a energia da radiação característica de A excede a energia crítica de ionização do elemento B irá ocorrer uma fluorescência característica de B pela radiação do elemento A O efeito da fluorescência depende do quão próximo a energia do fóton A se encontra da energia crítica de ionização de B Por exemplo a radiação Kα do níquel 747 keV tem energia próxima a energia crítica de ionização da radiação Kα do ferro 7111 keV ocasionando a fluorescência da radiação do ferro Neste caso o fenômeno da fluorescência ocasiona um aumento no pico do ferro no espectro e uma diminuição do pico do níquel em relação ao esperado para uma amostra contendo estes dois elemento A correção por fluorescência fará uma compensação para este efeito removendo parte da contagem da radiação do ferro para o níquel Profª Ana Maria Maliska 64 Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise Tabela 42 Fluorescência secundária em uma amostra contendo Mn Fe Co e Ni 1 Elemento Radiação causadora da fluorescência Mn Fe Kα Co Kα Co Kβ Ni Kα Ni Kβ Fe Co Kβ Ni Kα Ni Kβ Co Ni Kβ Ni nenhuma A tabela 42 mostra o caso de uma amostra contendo os elementos manganês ferro cobalto e níquel Como a energia crítica de excitação para o manganês é menor do que a radiação Kα do cobalto e do níquel e consequentemente a fluorescência do manganês irá ocorrer a partir destas radiações As radiações Kβ do ferro cobalto e níquel também excedem a energia crítica de excitação do manganês podendo também contribuir para a fluorescência secundária do cobalto 45 ESPECTRÔMETRO DE ENERGIA DISPERSIVA O detector de energia dispersiva é um dispositivo de estado sólido usado para detectar os raiosX e converter sua energia em cargas elétricas Essas cargas serão o sinal e que quando processadas identificam a energia dos raiosX e consequentemente seus elementos Os raioX em sua interação com o sólido perdem sua energia dando origem a cargas elétricas que são coletadas pelo detector de estado sólido Uma das propriedades deste semicondutor é que o mesmo deve coletar tanto as cargas positivas como as negativas A Fig 46 mostra este processo de detecção Profª Ana Maria Maliska 65 Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise Detector de Si cargas Metalização Au 250 A 500 a 1000 V Janela do Detector Be ou polímero RaiosX da amostra Para o FET e Préamplificador Figura 46 Esquema do processo de detetecção dos raiosX pelo espectrometro 7 Os tipos de materiais mais usados para o semicondutores são o silício Si e o germânio Ge O Si precisa de um raioX com 38 eV de energia para produzir 1 par de carga enquanto que Ge precisa de apenas 296 eV de energia do raioX O tipo de detector mais usado é o de Si que é o detector usado no espectrometro EDAX do Philips XL30 de maneira que este será o tipo de detector que será discutido neste trabalho No caso do detector de Si uma radiação Kα do oxigênio cuja energia é de 525 eV produz 52538 138 pares de cargas Uma radiação Kα do Fe irá produzir 640038 1684 pares de cargas Logo coletando e medindo as cargas a energia dos raiosX podem ser determinadas A carga é coletada eletrostaticamente para os terminais através da aplicação de uma voltagem de 500 a 1000 volts em frente ao detector Como o sinal é formado de cargas em movimento qualquer ruído eletrônico deve ser minimizado Um semicondutor produz uma corrente térmica que deve ser reduzida diminuindo a temperatura do detector Os detectores de Si precisam ser resfriados a uma temperatura de aproximadamente 190 C No caso dos detectores de Ge o resfriamento é mais crítico pois os mesmos produzem mais corrente 451 Processamento do Sinal A carga de cada raioX que penetra no detector deve ser processada e armazenada na memória de modo a formar o espectro da amostra Basicamente o processo ocorre da seguinte maneira A carga coletada pelo detector é amplificada por um fator de 1010 no pre amplificador FET Field Effect Transistor Para que o ruído eletrônico seja minimizado o Profª Ana Maria Maliska 66 Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise preamplificador é posicionado logo atrás do detector e é também resfriado com nitrogênio líquido O preamplificador converte o sinal de carga num sinal eletrônico Em seguida o sinal é processado num amplificador cuja função é amplificar o sinal para uma faixa de 010 volt filtrar o sinal retirando o ruído ainda existente e detectar as radiações que se sobrepuseram uma a outra para que não se tenha informações errôneas Para que o sistema de análise por energia dispersiva tenha a máxima resolução possível o amplificador principal deve ter tempo suficiente para processar o pulso É claro que se o tempo para processar o sinal for grande aumentam as chances de que um segundo pulso chegue ao amplificador principal sem que o primeiro tenha sido processado completamente Para que se possa detectar os pulsos sobrepostos um segundo amplificador é colocado somente para detectar as emissões de raiosX Este detector é chamado de canal de inspeção Este canal de inspeção detecta quando os sinais são sobrepostos rejeitandoos A qualidade do sinal é então mantida mas é introduzido um tempo morto dead time que aumenta para altas contagens Na prática o dead time não deve exceder 50 O sinal processado é digitalizado usando um conversor de sinal análogo para digital Este dispositivo mede a voltagem de cada sinal e o armazena em um multicanal Esta armazenagem é organizada de tal maneira que cada canal representa 10 eV de energia A partir deste espectro digitalizado a intensidade dos raiosX de cada elemento podem ser obtidas Um espectro é mostrado a seguir 452 Eficiência do detector A eficiência do detector é controlada pelo tipo e espessura das camadas presentes no detector pelo tipo de janela se existir pela camada de contato de ouro e pela camada de silício Um raioX ao colidir com uma área ativa do detector deve ser absorvido pelo mesmo para que o sinal possa ser gerado A absorção do raioX por uma camada de espessura t é dada pela lei de Beer Profª Ana Maria Maliska 67 Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise I I e t o µρ 41 onde I intensidade final Io intensidade inicial m coeficiente de absorção de massa ρ densidade τ espessura do Si ou Ge Esta equação permite que a eficiência do detector seja calculada levando em conta o coeficiente de absorção da camada em frente do detector janela de Be ou de polímero metalização com Au como também como a espessura do material ativo do detector Si ou Ge O material da janela do detector é o fator mais importante para a sua eficiência principalmente na detecção das radiações pouco energéticas que é o caso dos elementos leves As janelas de Be têm sido usadas desde o início da fabricação dos detectores A partir do final da década de 80 começaram a ser utilizadas as janelas de polímero super finas e nos últimos anos essas janelas têm sido amplamente utilizadas A espessura das janelas de Be ficam entre 7 a 12 µm sendo que as mais finas chegam a alcançar 5 µm Desta maneira somente raiosX de elementos com número atômico acima do Na Z11 é que conseguem ser detectados As janelas de polímero superfinas que é o caso da janela do detector EDAX do microscópio do LabmatEMC permitem detectar elementos acima do B Z5 A tabela 43 compara a eficiência desses dois tipos de janelas Tabela 43 Transmissão das radiações K através de várias janelas Tipo de janela B C N O F Be 8 mm 0 0 0 0 5 PolímeroUltrafino 25 85 42 60 70 Profª Ana Maria Maliska 68 Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise As janelas superultrafinas SUTW super ultra thin window permitirão a detecção de berílio e boro sendo porém muito mais eficientes na detecção de elementos com Z elevado Se ocorrer a formação de uma camada de contaminação tanto na janela quanto no detector a eficiência na detecção de elementos leves será grandemente afetada Esta camada poderá ser devido a contaminação com óleo como a formação de um depósito de gelo 453 Eficiência da geometria do detector A quantidade de raiosX coletados pelo detector é função do ângulo sólido que a área do detector intercepta os raiosX emitidos isotrópicamente da amostra É importante que este ângulo seja o maior possível especialmente quando se analisa pequenas regiões da amostra O ângulo sólido em esteroradianos é dado por Ω Λ d 2 62 onde Λ é a área do detector mm2 e d é a distância do detector a amostra Logo o valor do ângulo sólido depende da distância da amostra ao detector e da superfície total do detector Fig 47 A área dos detectores normalmente é de 10 mm2 e a distância entre a amostra e o detector varia entre 10 e 100 mm Os detetores EDAX possuem uma pequena distância amostradetetor aproximadamente 20 mm e uma grande área de detecção 10 mm2 resultando num elevado ângulo sólido 0026 steroradianos 454 Ângulo de saída Takeoff angle Os raiosX característicos gerados na amostra podem ser modificados no seu caminho por uma série de mecânismos Os mais importantes deles são a absorção e fluorescência que resulta tanto numa diminuição quanto num aumento de picos individuais Esses mecanismos são bastante complexos mas de maneira geral quanto menor a trajetória percorrida dos raiosX em direção a amostra menor sua influência e mais fácil será a interpretação dos dados do espectro Profª Ana Maria Maliska 69 Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise Uma maneira de reduzir esta absorção é posicionar o detetor num elevado ângulo em relação a superfície da amostra Para a análise qualitativa um takeoff angle de 35 é suficiente para minimizar estes efeitos Figura 47 Representação esquemática do ângulo sólido de detecção dos raiosX 2 455 Resolução do detector A largura original do pico a meia altura FWHM Full Width at Half Maximum que é da ordem de 2 eV 23 eV para o caso do Mn K é deteriorada no detector de SiLi para cerca de 150 eV novamente para o caso do Mn que é o padrão usado para calibrar a resolução do detector Isto ocorre porque o número de elétrons gerados por um fóton de raioX é estatisticamente distribuído como resultado do processo de contagem e porque existe uma incerteza do ruído no processo de amplificação do sinal Atualmente a resolução dos detectores é muito próxima dos valores teóricos que seria de cerca de 100 eV se todo o ruído fosse eliminado Nos detectores mais antigos esta resolução era pior que 2 keV devido aos efeitos das dead layer Como o ruído no detector é uniforme a FWHM do picos de raiosX varia com a energia do raioX da seguinte maneira Profª Ana Maria Maliska 70 Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise FWHM 25 E Eref FWHMref 2 b g LNM OQP 1 2 63 onde E é a energia do raioX e Eref é a energia do raioX de referencia Mn K com os valores das energias em eV Analisando a equação observase que FWHM aumenta com o aumento da energia do raioX Por exemplo de cerca de 100 eV para o Al K em 149 keV para cerca de 170 eV para o Cu K em 804 keV 456 Relação entre altura do pico e background Uma conseqüência da menor resolução maior largura do pico devido a baixa resolução do detector de Si é uma redução da altura do pico acima do background No caso da radiação Mn K temse uma redução de 15 na altura do pico Como a FWHM aumenta com a energia a relação altura do pico deve diminuir para picos de elevada energia 46 ARTEFATOS NO PROCESSO DE DETECÇÃO DO ESPECTRO Desvios do processo ideal de detecção resulta no aparecimento de artefatos principalmente alargamento dos picos distorção dos picos picos de escape da radiação do silício absorção das bordas absorption edges do ouro e do silício e pico interno de fluorescência do silício 461 Picos de escape Alguns dos raiosX que penetram no detector podem causar a ionização fluorescência do Si K Isto pode resultar na origem de dois raiosX um com energia do silício 174 keV e outro com a energia original menos a energia do silício Se ambos os picos permanecerem no detetor os dois picos serão somados e a escolha da energia correta será feita no analisador de multicanal A radiação Si K com energia de 174 keV pode escapar da superfície frontal do detector Consequentemente sua energia é perdida e é transmitido um pulso tendo uma energia igual a original menos 174 keV Neste caso o pico original será reduzido da quantidade de raiosX que escaparam A chance de que escape uma radiação Si K é pequena mas finita e picos bastante intensos de um espectro tem Profª Ana Maria Maliska 71 Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise associado fracos mas significantes picos a 174 keV menor de energia e que são chamados de picos de escape Fig 48 Figura 48 Espectro representando o pico de escape do cálcio 8 Somente os raiosX com energias maiores que a absorção lateral edge absorption do silício 184 keV podem causar a fluorescência do silício De tal maneira que se pode esperar picos de escape associados com radiação K para o fósforo ou número atômico superior O tamanho do pico de escape em relação ao pico que o originou normalmente não mais que 1 ou 2 diminuí para números atômicos elevados Isto ocorre porque raiosX de alta energia tendem a depositar sua energia mais para o interior do detector onde se os raiosX do silício se originados têm maior dificuldade de escapar do detector 462 Absorções laterais O background do espectro pode apresentar uma queda na energia relativa a absorção lateral do silício e também pode apresentar uma outra absorção lateral no pico M do ouro Este fenômeno decorre da passagem da radiação através da camada de ouro e da camada de silício com a absorção de raiosX contínuos Profª Ana Maria Maliska 72 Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise 463 Pico de fluorescência interna do Silício A absorção fotoelétrica de raiosX pela camada do silício Si dead layer resulta na emissão da radiação Si K por esta camada para a parte ativa do detector Esses raiosX que não se originaram da amostra produzem um pico muito pequeno mas que é reconhecido A altura deste pico pode ser de até 02 em algumas amostras Como este pico é muito pequeno pode também ser confundido com a absorção lateral do silício 464 Picos Somados Sum Peaks Para que dois raiosX sejam detectados separadamente é necessário que o intervalo de tempo entre os sinais seja menor do que o tempo de resolução do canal isto é da ordem de alguns décimos de nanosegundos Pode acontecer que dois raiosX de mesma intensidade penetrem no detector quase simultaneamente em intervalos de tempo menores que a resolução do detector e sejam captados como uma única radiação com o dobro da intensidade Este fenômeno é freqüente em ligas de alumínio apresentando um sum peak 298 keV que é igual a posição de outros elementos como o argônio ou a prata Os sum peaks são problemas típicos de elevadas contagens ou quando a fase é dominada por um único elemento Os programas de análise do espectro normalmente possuem uma seleção para o sum peak que irá mostrar no espectro a posição do provável pico 465 Radiações perdidas Stray radiation São raiosX que se originaram em outras regiões que não aquela aonde o feixe interagiu com a amostra e podem ter sido originados por uma série de processos A maioria ocorre como resultado da criação de raiosX devido ao choque de elétrons retroespalhados com a parte inferior da coluna suporte e câmara da amostra ou com outra área que não seja a região da imagem A quantidade desta radiação é razoável quando a superfície da amostra é rugosa ou quando a análise é realizada próxima a algum canto Para minimizar este tipo de radiação a amostra deve ser bem polida e colocada na posição correta em relação ao detector Outra providencia é posicionar o detector de elétrons secundários de tal maneira que o mesmo irá Profª Ana Maria Maliska 73 Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise atuar como um sumidouro de ERE e desta maneira a parte inferior da coluna não será atingida pelos ERE 466 Aquecimento do detector Os detectors atuais possuem um sensor de temperatura que o desliga quando o detetor se encontram sem nitrogênio líquido Um pouco antes do detector ficar sem nitrogênio é comum aparecer um pico assimétrico na região de baixa energia Caso este pico apareça no espectro deve ser adicionado nitrogênio líquido no detetor sendo que o mesmo pode ainda ser usado para análise qualitativa desde que não se esteja trabalhando com picos de baixa energia Para trabalhos onde se requer de boa resolução é necessário esperar meia hora de resfriamento 47 ANÁLISE QUALITATIVA O primeiro passo para analisar uma amostra desconhecida é a identificação dos elementos presentes isto é a análise qualitativa A maioria dos textos sobre microanálise coloca mais ênfase na análise quantitativa dando pouca atenção a análise qualitativa pois consideram que esta seja de fácil interpretação É claro que os resultados da análise quantitativa ficam totalmente comprometidos se os elementos não forem identificados corretamente Normalmente os elementos em maior quantidade na amostra são identificados com elevada precisão mas quando os elementos estão presentes em quantidades pequenas ou apresentam somente traços erros de interpretação podem ocorrer em conseqüência das interferências artefatos e multiplicidade das raias espectrais para cada elemento Na microanálise química por energia dispersiva EDS considerase que acima de 10 em peso um elemento esteja presente em grande quantidade entre 1 e 10 em pequena quantidade e menor que 1 apenas traços O espectro consiste dos picos característicos e do contínuo background O background fornece a voltagem de aceleração do microscópio no restante é um sinal inconveniente pois não fornece nenhum dado sobre os elementos presentes na amostra Profª Ana Maria Maliska 74 Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise Para que se possa identificar os elementos dos diversos picos se compara a energia dos diversos picos com as energias dos elementos da tabela Normalmente os programas de computador já fornecem os possíveis elementos para determinado pico desconhecido O analista deve decidir qual elemento se encaixa melhor para aquela raia observando se as demais raias para aquele elemento também estão presentes A presença das outras raias é fundamental para a identificação do elemento e é importante que o analista tenha em mente o conceito das famílias das raias Quando a energia do feixe excede a energia crítica de ionização para uma camada ou subcamada de um elemento ocorrendo a sua ionização todas as possíveis transições envolvendo aquela camada ionizada devem ocorrer produzindo uma família de picos que se torna mais complicada a medida que a estrutura do átomo se torna mais complexa Por exemplo com um feixe de energia de 15 keV ou mais todas as possíveis raias de um elemento entre 01 10 keV serão eficientemente excitadas A presença no espectro de todos as possíveis raias de uma família aumentam a confiança de que o elemento foi identificado corretamente Como todos os membros da família devem estar presentes a ausência de uma raia deve imediatamente levantar a suspeita de uma incorreta identificação e da presença de outro elemento A baixa resolução dos picos do espectro de EDS quando comparado com os picos do WDS origina freqüentes problemas de interferência bem como a impossibilidade de separar certos membros das famílias que ocorrem a baixa energia 3 keV Para picos de elevadas energias este problema desaparece pois a distância entre os picos aumenta a medida que aumenta a energia dos picos que por sua vez aumenta com o número atômico A existência de artefatos no espectro como scape peaks e sum peaks aumentam a complexidade do espectro principalmente quando se considera picos de baixa intensidade Para melhorar a identificação de elementos desconhecidos é importante considerar a aparência das famílias K L e M no espectro como função da posição de energia na faixa entre 0710 keV Para picos localizados acima de aproximadamente 3 keV a separação dos membros de uma família de raias é grande o suficiente de tal maneira que apesar da largura do pico é possível identificar uma ou mais raias A aparência destes picos pode ser vista na Fig 49 e 410 Estes espectros e os demais apresentados durante o texto foram obtidos no Profª Ana Maria Maliska 75 Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise espectrometro Edax acoplado ao microscópio Philips XL30 instalado no LabmatEMCUFSC A altura aproximada dos picos fornece importantes informações na identificação do elemento Por exemplo a família K é formada por dois picos bastante definidos Kα e Kβ Quando estes picos estão bem definidos a razão entre os picos Kα e Kβ é aproximadamente 101 e esta razão deve ficar bem evidenciada na identificação do elemento Qualquer desvio desta relação deve ser observada atentamente pois o elemento pode ter sido identificado erroneamente ou pode estar faltando algum elemento Figura 49 Espectro por energia dispersiva mostrando os picos da radiação Kα e Kβ do Fe A presença da série L no espectro de EDS é formada pelos picos Lα1 Lβ107 Lβ202 Lβ3008 Lβ4005 Lγ1008 Lγ3003 L1004 e Lη001 Os picos observáveis da série M consistem dos picos Mα1 Mβ06 Mγ005 Mζ006 e MIINIV001 Os valores entre parêntesis indicam as intensidades relativas aproximada pois estas variam com o elemento e com a overvoltage Para radiações com energia acima de 3 keV é possível separar os picos série L conforme pode ser observado na Fig 410 para o caso do Sn No caso de radiações com Profª Ana Maria Maliska 76 Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise energia abaixo de 3 keV a separação dos picos das famílias K L ou M se torna tão pequena que não é possível definir os mesmos no espectro de EDS A aparência destas famílias pode ser vista na Fig 411 para o caso do Si K 174 keV e Fe L Observase que o pico K é praticamente simétrico porque a altura relativa do pico Kb é cerca de 001 do pico Ka Já as raias L e M são assimétricas devido a presença dos vários picos sem resolução próximos ao pico principal Figura 410 Espectro por energia dispersiva mostrando os picos Lα Lβ Lγ do Sn Profª Ana Maria Maliska 77 Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise Figura 411 Espectro por energia dispersiva mostrando os picos da família K do silício e L do ferro Todas as raias para as quais a energia crítica de ionização foi excedida devem ser observadas no espectro Isto significa que num espectro todas as raias correspondentes a um elemento devem ser observadas no espectro Por exemplo no caso do Cu Fig 412 se foi observada a raia K de alta energia 804 keV a raia L de baixa energia 092 keV também deve estar presente no espectro De maneira semelhante o mesmo ocorre quando se tem a presença de uma raia L de alta energia por exemplo o pico L do cério 48 keV os picos M de menor energia devem também estar presentes Profª Ana Maria Maliska 78 Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise Figura 412 Espectro por energia dispersiva mostrando os picos das raias K e L do cobre Espectrometros por dispersiva com janelas superfinas ou sem janelas possibilita a leitura de picos de energia abaixo de 1 keV onde ocorrem as raias K dos elementos leves berílio boro carbono nitrogênio oxigênio e flúor A medida que a energia dos picos caem abaixo de 1 keV a forma dos picos tendem a se desviar da forma gaussiana característica dos picos de elevada energia Figura 413 Espectros de baixa energia dos elementos carbono e oxigênio obtidos com o espectrometro EDAX com SUTW Profª Ana Maria Maliska 79 Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise Uma outra importante consideração na obtenção dos espectros por energia dispersiva de elementos leves energia abaixo de 1 keV é o problema da interferência das raias L M e N dos picos de elevada energia A Fig 414 mostra o espectro do óxido de Mn presente num aço O pico O K fica confundido com o pico Mn L e Fe L Para se ter certeza dos picos é necessário fazer a quantificação com a deconvolução conforme será visto na seção referente a análise quantitativa Figura 414 Espectro por energia dispersiva do óxido de Mn em amostra de aço 471 Guia para a análise qualitativa por energia dispersiva Alguns cuidados devem ser observados durante a determinação dos elementos presentes na amostra a Somente os picos que são estatisticamente significantes é que devem ser considerados para análise qualitativa Como regra considerase que altura desses pico deva ser três vezes acima da altura do background Para que não ocorra flutuação na contagem e obter a altura correta do pico mais contagens devem ser acumulada para que o espectro possa desenvolver o espectro correto b Normalmente para que se alcance rapidamente a contagem adequada no espectro temse a tendência de querer usar alta contagem por segundo CPS Entretanto o EDS se Profª Ana Maria Maliska 80 Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise torna muito susceptível aparecendo artefatos como os sum peaks a medida que a contagem é aumentada Para que o sistema possa operar com uma boa resolução a contagem por segundo deve ser mantida em torno de 3000 Uma medida alternativa é manter o dead time abaixo de 30 c O espectrometro de EDS deve ser calibrado frequentemente usando as amostras de Al e Cu para que os picos estejam ocupando suas posições corretas com menos de 10 eV fora dos valores tabulados d A energia das raias dos elementos de baixo Z até elevados Z estão posicionadas entre 01 keV a 14 keV Levando em conta que a overvoltagem deve ficar em torno de 10 um feixe com 20 keV teria uma boa energia para analisar amostras com elementos de médio a elevado Z Neste caso a voltagem seria adequada para a avervoltagem e para evitar a absorção que aumenta com o aumento da energia e da penetração do feixe No entanto essa voltagem do feixe iria mascarar a presença das raias do elementos leves isto é elementos que produzem raias abaixo de 2 keV Neste caso do nitrogênio cuja raia é de 03 keV a overvoltage é muito maior que 10 ocasionando uma maior penetração do feixe de elétrons primários e consequentemente elevada absorção com 5099 dos raiosX de baixa energia absorvidos na amostra Neste caso para evitar a possível perda de elementos leves o espectro deve ser repetido com energia entre 510 keV e Uma regra básica que deve sempre ser mantida no procedimento de identificação dos elementos é que ao identificar uma raia do elemento todas as demais raias da família devem ser identificadas particularmente as de menor energia Isto impede que as raias de baixa energia sejam confundidas com raias de outros elementos com menor concentração f Artefatos como picos de escape e sum peaks devem ser sempre observados a medida que se vai identificando os elementos principalmente quando se tem a presença de picos com elevada contagem Recomendações 1 Ao iniciar a identificação de um espectro inicie sempre com os picos situados na parte final do espectro pois é nessa região que se encontram as raias de maior energia e de melhor resolução 2 Determine os picos mais intensos se corresponderem a raias Ka do elemento então imediatamente procure a raia Kb que deve ser 10 da altura do pico Ka Profª Ana Maria Maliska 81 Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise 48 ANÁLISE QUANTITATIVA Conforme discutido anteriormente os raiosX emitidos da espécie bombardeada com um fino feixe de elétrons pode ser usado para identificar os elementos presentes na amostra Com a preparação correta da amostra e o uso de programas adequados é possível analisar quantitativamente a composição da amostra com precisão de até 1 Nesta seção será visto de maneira sucinta os princípios básicos e as técnicas usadas na determinação da composição química da amostra em escala micrométrica A possibilidade de determinar a composição química a nível micrometrico é a grande vantagem da análise por energia dispersiva Dependendo das características do feixe de elétrons e da composição química da amostra o volume de interação possui dimensões lineares da ordem de 1 µm Isto significa que é possível analisar um volume da ordem de 1012 cm3 Assumindo que a densidade típica do material é da ordem de 7 gcm3 é possível determinar a composição química de 7 x 1012 g do material Logo o uso desta técnica permite determinar heterogeneidades a nível microscópico na composição química do material possibilitando o entendimento do comportamento a nível macroscópico Outra característica importante da microanálise química é que a incidência do feixe de elétrons sobre a amostra não causa a destruição da mesma de tal maneira que a mesma amostra pode se reexaminada usando a microscopia ótica ou outras técnicas Isto é muito importante por exemplo quando os dados da microanálise precisam ser complementados por outras técnicas como é o caso de medidas de microdureza Profª Ana Maria Maliska 82 Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise 481 Procedimento para a análise quantitativa O procedimento geral para a análise quantitativa do material será descrito a seguir Muitas das etapas deste procedimento pode ser realizada automaticamente com o uso de programas computacionais Antes de querer realizar qualquer medida quantitativa é necessário que se tenha efetuado uma análise qualitativa muito criteriosa para identificar os constituintes presentes na amostra Por mais criteriosa que tenha sido a análise quantitativa da amostra a mesma perde toda a sua validade se os elementos não tiverem sido avaliados adequadamente 1 Coletar o espectro em condições corretas e reprodutivas A analise quantitativa pressupõe que as medidas de um determinado elemento tanto na amostra como no padrão quando necessário foram obtidos em idênticas condições do espectrometro eficiência take off angle calibração e resolução mesma energia do feixe mesma saturação e sob mesma coleta de radiações tempo de coleta do espectro Sempre que possível e importante que a voltage do feixe deve ser escolhida de tal maneira que a overvoltage seja igual a 20 Usando a relação entre as intensidade IIo entre a amostra e o padrão fatores de interferência do instrumento e de outras constantes provenientes da amostra e do padrão serão eliminados 2 Coleta do espectro da amostra padrão que contenha todos os elementos presentes na amostra Uma amostra padrão para a microanalise é aquela que contem não somente a composição conhecida mas também a mesma composição em todos os pontos da amostra isto é que seja uma amostra homogênea a nível microscópico Por exemplo pode se ter um aço com sua composição química bem caracterizada por outros métodos químicos mas como os aço possuem uma microestrutura muito complexa é preciso ser muito criterioso para usálo como padrão Felizmente é possível se fazer a analise quantitativa usando como padrão elementos puros Neste caso para se quantificar todos os elementos da amostra é necessário que se tenha vários padrões cada um deles contendo um elemento da amostra 3 Remover a influencia do background do espectro O background resultante da radiação continua é uma fração que irá influenciar de maneira muito importante na quantificação dos elementos principalmente naqueles elementos presentes em pouca quantidade É necessário retirar a influência do background para que na quantificação se tenha apenas a influencia dos raiosX característicos Os programas de analise quantitativa já contem modelos matemáticos aproximados que automaticamente removem a influencia do background Profª Ana Maria Maliska 83 Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise 482 Fatores de correção na quantificação dos elementos Uma analise rápida da quantificação dos elementos temse a impressão que o método deve ser extremamente simples Numa primeira aproximação a intensidade e a concentração estão linearmente relacionadas Portanto basta apenas determinar a relação entre a intensidade da radiação característica medida da amostra e a intensidade da radiação do padrão Esta relação deve ser igual a razão entre a concentração da amostra e do padrão Fig 415 Figura 415 Gráfico representando a relação entre a intensidade e a concentração 7 Como esta relação é muito importante na microanalise eletrônica foi definida uma quantidade chamada de relação k k Ci CP Ii IP 64 onde os termos CI e CP são respectivamente a concentração da composição em peso do elemento na amostra desconhecida e na amostra padrão A razão entre as medidas da intensidade do desconhecido e do padrão é a medida experimental básica em que se fundamenta toda a analise quantitativa Profª Ana Maria Maliska 84 Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise Esta é uma correlação aproximada e é necessário corrigila levando em conta alguns efeitos da matriz Na maioria das analises químicas quantitativas a medida das intensidade da amostra e do padrão precisam ser corrigidas devido a interferência dos elétrons retroespalhados densidade perda de energia bem como a absorção da radiação pelo solido de maneira a chegar numa relação entre as intensidade geradas e consequentemente no valor da concentração Esses efeitos são conhecidos com efeitos da matriz e os efeitos mais importantes levados em consideração são o numero atômico Z o efeito da absorção A e o efeito da fluorescência F 483 Origem dos efeitos da Matriz Conforme já discutido anteriormente a intensidade dos raiosX gerados para cada elemento na amostra é proporcional a concentração de cada elemento a probabilidade da produção de raiosX o caminho percorrido pelos elétrons e a quantidade de elétrons que permanecem na amostra É muito difícil calcular diretamente a intensidade absoluta gerada para cada elemento presente na amostra Entretanto o analista precisa ter como dado para o calculo da concentração a intensidade medida A intensidade medida é ainda mais difícil de calcular tendo em vista que pode ocorrer a absorção e fluorescência da radiação pela amostra modificando assim os valores reais da medida de intensidade Devem ser consideradas fatores inerentes ao instrumento tais como diferenças na eficiência do espectrometro em função da energia da radiação Muitos desses fatores são dependentes do número atômico das espécies envolvidas Portanto amostras com mistura de elementos os efeitos da matriz têm como origem as diferenças no processo de espalhamento elástico e inelástico na propagação da radiação através da amostra até alcançar o detector Por razões conceituais bem como por motivos de calculo é conveniente dividir os efeitos da matriz em efeitos devido ao número atômico Zi absorção de raiosX Ai e fluorescência de raiosX Fi Usando esses efeitos da matriz a forma mais comum da correção da equação é Ci CP ZAF i I I ZAF i ki i P 65 onde Ci é a fração em peso do elemento i em interesse na amostra e CP é a fração em peso de i no padrão Esta equação deve ser aplicada separadamente para cada elemento presente na Profª Ana Maria Maliska 85 Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise amostra Os efeitos de Z A e F devem ser calculados separadamente para cada elemento presente na amostra 484 Efeito do número atômico Conforme visto anteriormente os caminhos que os elétrons descrevem na amostra são bem representados pela simulação de Monte Carlo Nesta técnica de simulação cada a cada ponto ao longo da trajetória é levado em conta a ocorrência tanto do espalhamento elástico quanto do inelástico A produção de raiosX que é um processo de espalhamento inelástico ocorre ao longo de toda a trajetória do elétron secundário desde que a energia E do elétron seja maior que a energia critica de excitação Ec do raioX característico de interesse A Fig 416 mostra a simulação da posição da ocorrência de interações para o caso do Al Ti e Cu usando um feixe eletrônico com energia inicial de 15 keV Cada ponto indica a formação de um raioX e a região escura indicando que um número muito grande de raiosX foi gerado Esta figura mostra que o volume de geração dos raiosX diminui com o aumento do número atômico Al Z13 ao Cu Z29 para a mesma energia inicial do feixe A diminuição no volume de raiosX gerados ocorre devido ao aumento do espalhamento elástico com o número atômico que desvia o elétron de sua trajetória inicial e também devido ao aumento na energia crítica de excitação Ec com uma diminuição na overvoltage U U EoEc com o número atômico A diminuição de U diminui a fração da energia inicial do eétron disponível para para a produção dos raiosX característicos e a faixa de energia na qual os raios X podem ser formados Profª Ana Maria Maliska 86 Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise Figura 416 Simulação de Monte Carlo para a formação de raiosX em amostras de Al a Ti b e Cu c para um feixe de elétrons com 15 keV 1 Observando a Fig 416 notase que existe uma distribuição desigual da formação dos raiosX na profundidade z para amostras com vários números atômicos e mesma energia inicial do feixe eletrônico Essa variação é ilustrada pelo histograma colocado a esquerda da simulação de Monte Carlo Este histograma plota o número de raiosX gerados com a profundidade da amostra Em geral a formação dos raiosX para a maioria das amostras é maior logo abaixo da superfície da amostra e diminui para zero quando a energia E do feixe eletrônico cai para valores inferiores a energia crítica de excitação Ec de formação do raioX característico do elemento em questão Portanto conforme ilustrado pela simulação de Monte Carlo o número atômico da amostra afeta intensamente a distribuição dos raiosX gerados na amostra Profª Ana Maria Maliska 87 Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise 485 Profundidade de formação dos raiosX Conforme visto no parágrafo anterior a formação dos raiosX varia com a profundidade e com o número atômico da amostra Na prática é muito difícil medir ou calcular um valor absoluto para a intensidade dos raiosX gerados com a profundidade É usado conforme sugerido por Castaing 1951 a intensidade relativa e que varia com a profundidade φρz O termo ρz é chamado de profundidade de massa e é o produto da densidade ρ da amostra com a profundidade z e é normalmente dado em unidade de gcm2 O uso do termo profundidade de massa mascara o efeito da profundidade da amostra quando se compara amostras de diferentes números atômicos A curva φρz é normalizada pela intensidade gerada numa camada padronizada tão fina que não ocorre espalhamento elástico isto é uma camada com espessura inferior a 10 nm A forma geral da profundidade de distribuição dos raiosX gerados a curva φρz versus ρz é mostrada na Fig 417 A quantidade inicial de raiosX produzidos está relacionada com a quantidade de espalhamento elástico a energia do feixe de elétrons e a energia do raioX gerado pelo elemento Figura 417 Representação esquemática da curva φρz 3 A medida que o feixe incidente vai penetrando através das camadas do material o comprimento da trajetória do elétron aumenta em cada camada porque o espalhamento elástico Profª Ana Maria Maliska 88 Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise deflete o elétron de sua trajetória retilínea em direção ao interior da amostra necessitando de um tempo maior para cruzar a camada e porque o retroespalhamento resulta em elétrons espalhados profundamente na amostra cruzando a camada em direção oposta Devido a esses fatores a produção de raiosX aumenta com a profundidade da amostra a partir da superfície ρz 0 alcançando um pico φm a uma certa profundidade ρRm conforme pode ser visto na Fig 417 Depois de atingir a profundidade ρRm a produção de raiosX começa a diminuir com a profundidade porque o retroespalhamento dos elétrons do feixe reduz o número de elétrons disponíveis e o os elétrons remanescentes perdem energia e consequentemente poder de ionização a medida que os mesmos vão sofrendo choques para o interior da amostra Finalmente a produção de raiosX cai a zero quando ρz ρRx onde a energia do elétron não excede mais a energia crítica de ionização Ec 486 Fatores ZAF na microanálise Esta seção discute cada fator Z A e F individualmente e sua contribuição para a correção total da matriz Efeito do número atômico Nos cálculos da microanálise o efeito do número atômico Zi é igual a relação entre o Iger no padrão e o Iger na amostra para cada elemento i Usando curvas φρz apropriadas Iger pode ser obtido para o padrão e a amostra Uma outra aproximação para o efeito do número atômico é considerar diretamente os dois fatores retroespalhamento R e desaceleração D 17 que irão determinar a quantidade dos raiosX gerados na amostra Dividindo o fator de desaceleração para a amostra e o padrão pelo fator de retroespalhamento da amostra e do padrão resulta no efeito do número atômico Zi para cada elemento i na amostra 1 Fator de retroespalhamento R O processo de espalhamento elástico origina o retroespalhamento que resulta numa perda prematura de uma fração significante de elétrons do feixe que penetraram no material antes que toda a energia do feixe tenha sido gasta na produção de raiosX A partir da Fig310 que mostra a variação do coeficiente de retroespalhamento em função do número atômico observase que este efeito é bastante intenso particularmente se os elementos presentes na amostra desconhecida e no padrão possuírem números atômicos bem diferentes Profª Ana Maria Maliska 89 Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise Por exemplo considerando a análise do constituinte alumínio presente em pequena quantidade 1 no ouro em relação ao padrão de alumínio puro No padrão de alumínio puro o coeficiente de retroespalhamento é cerca de 15 para uma energia do feixe de 20 keV enquanto para o ouro é de 50 Quando o alumínio é usado como padrão cerca de 85 do dos elétrons do feixe gastam sua energia totalmente na amostra produzindo uma quantidade máxima de radiação Al Kα No ouro somente 50 são parados na amostra logo devido a este efeito o alumínio é pouco representado na geração de raiosX na amostra quando considerado em relação ao padrão A distribuição de energia dos elétrons retroespalhados aumenta ainda mais este efeito Não somente existem mais elétrons retroespalhados de amostras com elevados números atômicos mas também os elétrons retroespalhados de amostra com elevado número atômico carregam uma fração maior da energia incidente do feixe de elétrons reduzindo a energia disponível par a ionização de camadas mais internas Logo o fator R representa a fração de produção máxima de raiosX gerados na amostra na correção da formulação ZAF da correção da matriz R diminui com o aumento de Z e U 2 Fator de desaceleração S A quantidade de energia dissipada devido ao espalhamento inelástico também depende fortemente do número atômico Para realização dos cálculos quantitativos é usado o fator de desaceleração da amostra A formulação feita por Bethe para a quantidade de energia perdida mostra que a freamento diminui com o número atômico de tal maneira que materiais com baixo número atômico retiram energia do feixe eletrônico numa distância ρz mais rapidamente do que amostras com elevado número atômico O fator S é o segundo fator de correção do número atômico Os efeitos de S e R agem em direções opostas de tal maneira que tendem a se anular É importante observar que as curvas φρz para amostras com multielementos e padrões elementares que podem ser usados no calculo do efeito do número atômico contem os fatores R e S 487 Efeito da absorção dos raiosX A Fig 418 ilustra o efeito da variação da energia inicial do feixe de elétrons na posição onde ocorrem a formação de raiosX pela interação com a camada K para amostra de Cu com energia inicial do feixe de 10 20 e 30 keV usando a simulação de Monte Carlo Profª Ana Maria Maliska 90 Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise Esta figura mostra que os raiosX do Cu são gerados mais profundamente na amostra e que o volume de geração dos raiosX é maior a medida que Eo aumenta A partir desses dados observase que os locais de maior ionização das camadas internas que originam os raiosX característicos se encontram numa região mais abaixo da superfície da amostra Figura 418 Simulação de Monte Carlo para o volume de geração de raiosX para o Cu usando 10 a 20 b e 30 keV c 1 Para alcançar o detector os raiosX precisam atravessar certa quantidade de matéria e conforme explicado na seção 444 o processo de absorção fotoelétrica diminui a energia do feixe É importante observar que os raiosX tanto os que são absorvidos quanto os que passam através do material com sua energia original não modificada são ainda característicos dos átomos que o emitiram O fenômeno da absorção tem um comportamento exponencial de tal maneira que os raiosX gerados mais para o interior da amostra uma fração progressivamente maior é perdida por absorção Profª Ana Maria Maliska 91 Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise Para quantificar os cálculos da absorção dos raiosX algumas aproximações são feitas como a redução da complexa função tridimensional para um problema unidimensional pois a trajetória de saida do raioX em direção ao detector depende somente da profundidade As curvas φρz conforme discutido anteriormente fornecem a distribuição dos raiosX gerados para o interior da amostra A Fig 419 mostra os cálculos das curvas φρz para a radiação Cu Ka no Cu puro para 10 15 e 30 keV As curvas se estendem mais profundamente na amostra com o aumento de Eo O valor de φo também aumenta com o aumento da energia inicial do feixe de elétrons pois a energia dos elétrons retroespalhados aumenta para elevados valores de Eo Figura 419 Curvas de φρz calculadas para Cu Kα em Cu a 10 15 e 30 keV 1 Os raiosX que escapam de qualquer profundidade da amostra podem ser determinados colocando o valor correto da distância percorrida na equação de absorção dos raiosX para a razão da intensidade do raioX medido I e a intensidade dos raiosX gerados Io em alguma posição da amostra I Io t FHGIKJ F HG I KJ exp µ ρ ρ Profª Ana Maria Maliska 92 Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise Os termos na equação da absorção são o coeficiente de absorção de massa mρ a densidade da amostra ρ e a distância percorrida t PL pelo raioX para atravessar a amostra antes de alcançar a superfície z ρ z 0 Neste caso I representa a intensidade dos raiosX que deixam a superfície da amostra e Io representa a intensidade dos raiosX gerados em determinado ponto dentro do volume de geração dos raiosX Como o espectrometro é colocado formando um ângulo agudo com a superfície da amostra o chamado takeoff angle a distância PL á partir de uma determinada profundidade z é dada por PL z csc Ψ conforme pode ser visto na figura 420 Figura 420 Diagrama esquemático da absorção no cálculo de φρz emitido 7 Quando esta correção para a absorção é aplicada para cada camada ρz na curva φρz surge uma nova curva que fornece a profundidade de distribuição dos raiosX emitidos Um exemplo das curvas de profundidade de distribuição da geração e emissão de Al Kα com a energia inicial do feixe de 15 keV em uma amostra de Cu com traços de Al é mostrada na Fig 421 A área embaixo da curva φρz representa a intensidade de raiosX A diferença entre a área integrada entre as curvas geradas e as curvas emitidas φρz representa a quantidade total de raiosX perdidos devido a absorção Profª Ana Maria Maliska 93 Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise Figura 421 Curva calculada φρz dos raiosX gerados e emitidos para o Al Kα numa matriz de Cu a 20 keV 7 A absorção de raiosX é o fator mais importante a ser considerado na quantificação da composição usando a microanálise Para uma determinada distância percorrida pelo raioX o coeficiente de absorção massica µρ para cada radiação medida controla a quantidade de absorção O coeficiente de absorção µρ varia muito de uma radiação para outra e depende dos elementos da matriz da amostra Por exemplo o coeficiente de absorção de massa para a radiação Kα do Fe numa matriz de Ni é de 900 cm2g enquanto que o coeficiente de absorção da radiação Kα do Al no Ni é de 48375 cm2g Usando a equação anterior e supondo uma distância percorrida de 1 µm numa amostra de Ni contendo pequenas quantidades de Fe e Al a relação entre os raiosX gerados e a quantidade de raiosX emitidos IIo na superfície da amostra é de 0923 para a radiação Fe Kα mas é de apenas 00135 para a radiação do Al Kα Logo na amostra de Ni a radiação Al Kα é altamente absorvida em relação a radiação Fe Kα Esta quantidade de absorção tão elevada deve ser levada em conta quando se realiza a quantificação dos elementos Um problema ainda mais sério de absorção ocorre na medida de elementos leves C N O etc Por exemplo o coeficiente de absorção massica para a radiação C Kα numa matriz de Ni é de 17 270 cm2g tão grande que na maioria das análises não é possível medir a radiação C Kα se a distância de absorção é de 1 µm Quantidades significantes de C podem ser medidas Profª Ana Maria Maliska 94 Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise numa amostra de níquel se a distância de absorção for menor que 01 µm da superfície Neste caso a energia do feixe inicial de elétrons deve ser menor que 10 keV de tal maneira que a radiação C Kα seja gerada próxima a superfície 488 Fluorescência dos raiosX A absorção fotoelétrica resulta na ionização de camadas internas e estas ionizações podem causar também a emissão de raiosX característicos Para que ocorra a fluorescência a amostra deve conter átomos com energia crítica de ionização menor que a energia do raioX característico a ser absorvido pela amostra Neste caso a medida da intensidade dos raiosX emitidos por este segundo elemento inclui a intensidade dos raiosX gerados diretamente e a intensidade adicional daqueles gerados pelo efeito da fluorescência Geralmente o fenômeno da fluorescência pode ser ignorado a não ser que a energia do fóton exceda o edge energy pelo menos em 5 keV Um exemplo de um sistema em que o efeito da fluorescência é significante ocorre em amostras contendo FeCrNi Devido as energias relativas dos raiosX a camada K do Fe sofre fluorescência pela radiação Kα do Ni e a camada K do Cr sofre fluorescência tanto pelo Fe Kα quanto pelo Ni Kα O significado da correção de fluorescência Fi pode ser melhor entendida analisando o sistema binário FeNi Neste sistema a energia da radiação característica Kα do Ni é de 7478 keV que é maior do que a energia de excitação da radiação Fe K Ec 711 keV Consequentemente uma quantidade adicional da radiação Fe Kα é produzida No caso do sistema FeNi o efeito do número atômico ZFe e o efeito da absorção Afe para o Fe Ka são muito próximos a 1 No entanto a medida de intensidade da radiação K a é superior ao gerado Esta intensidade adicional é devida ao fenômeno da fluorescência Por exemplo para uma amostra 10Fe90Ni a quantidade de fluorescência é de 25 O calculo da influência da fluorescência considera a propagação da intensidade dos raiosX gerados em cada camada de φρz com distribuição sobre um volume esférico centrado em ρz desta camada A quantidade de absorção é calculada baseada na distância radial a partir da camada inicial e determinando a contribuição da absorção de cada camada z na distribuição φρz dos raiosX induzidos Como os raiosX percorrem maiores distâncias no material do que os elétrons a distribuição dos raiosX induzidos φρz ocorre numa maior profundidade geralmente na ordem de uma magnitude ou mais do que φρz induzido pelos elétrons Profª Ana Maria Maliska 95 Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise O fator de fluorescência Fi é normalmente o fator menos importante no calculo da composição pelo método ZAF pois a fluorescência secundária pode não ocorrer ou a concentração dos elementos que causam a fluorescência pode ser pequena 489 Tipos de correção de matriz O método ZAF e o φρz calculam correções para cada efeito de matriz descrito anteriormente Estes métodos são os mais usados e produzem resultados bastante precisos mesmo no caso de se dispor apenas de padrões de elementos puros com padrão O método ZAF se baseia em dados experimentais tais como o coeficiente de retroespalhamento e a distribuição de energia e as descrições teóricas tais como a expressão de perda de energia de Bethe para calcular o fator de correção do número atômico Z Os fatores de absorção de radiação A e o de fluorescência F são calculados com base nas curvas φρz determinadas experimentalmente O método PhiRhoZ φρz usa como base de dados centenas de curvas experimentais φρz para desenvolver equações generalizadas e predizer a curva gerada φρz para qualquer feixe de energia e qualquer composição da amostra Como a área embaixo da curva φρz é proporcional a intensidade total de raiosX gerados incluindo os efeitos de retroespalhamento e desaceleração stopping power a expressão φρz incorpora diretamente a correção do número atômico Z O coeficiente de absorção A e fluorescência F são tratados diretamente da expressão de φρz Profª Ana Maria Maliska 96 Microscopia Eletrônica de Varredura e Microanálise 4810 Requisitos para a análise química Alguns prérequisitos precisam ser satisfeitos para que a análise possa ser obtida com precisão 1 A espécie deve ser homogênea em todo o volume de interação incluindo a região alargada do volume devido a fluorescência do raioX e também todo o trajeto que o raioX atravessa a amostra em direção ao espectrometro Apesar da resolução espacial da técnica ser de aproximadamente 1 µm ou menos especialmente se a fluorescência for insignificante esta condição é difícil de ser obtida quando o feixe se posicionar numa interface entre duas fases quimicamente diferentes como no caso da amostra ser composta de um fino filme sobre um substrato ou de conter pequenos precipitados 2 A amostra deve ser plana com uma superfície altamente polida posicionada num ângulo conhecido em relação ao feixe de elétrons e ao espectrometro Todos os método de análise quantitativa assumem que a diferença entre a intensidade dos picos nos espectros da amostra desconhecida e do padrão é devida unicamente a diferença na composição Influencias como irregularidades na superfície da amostra tamanho forma e inclinação da superfície podem também influenciar a interação dos elétrons e a propagação dos raiosX 3 A superfície da amostra não deve sofrer polimento ou ataque químico pois estes processos químicos podem retirar constituintes preferenciais da região bem externa da superfície e que não serão caracterizada na microanálise Profª Ana Maria Maliska 97